ຜະລິດຕະພັນ

VeTek Semiconductor ສະຫນອງທໍ່ຂະບວນການ SiC ທີ່ມີປະສິດທິພາບສູງສໍາລັບການຜະລິດ semiconductor. ທໍ່ຂະບວນການ SiC ຂອງພວກເຮົາດີເລີດໃນຂະບວນການຜຸພັງ, ການແຜ່ກະຈາຍ. ດ້ວຍຄຸນນະພາບ ແລະ ຝີມືທີ່ເໜືອກວ່າ, ທໍ່ເຫຼົ່ານີ້ສະ ເໜີ ຄວາມສະຖຽນຂອງອຸນຫະພູມສູງ ແລະ ການນຳຄວາມຮ້ອນເພື່ອປະມວນຜົນເຊມິຄອນດັກເຕີທີ່ມີປະສິດທິພາບ. ພວກເຮົາສະເຫນີລາຄາທີ່ແຂ່ງຂັນແລະສະແຫວງຫາການເປັນຄູ່ຮ່ວມງານໄລຍະຍາວຂອງທ່ານໃນປະເທດຈີນ.

VeTek Semiconductor's SiC Cantilever Paddle ຖືກນໍາໃຊ້ໃນ furnaces ການປິ່ນປົວຄວາມຮ້ອນສໍາລັບການຈັດການແລະສະຫນັບສະຫນູນເຮືອ wafer. ຄວາມຫມັ້ນຄົງຂອງອຸນຫະພູມສູງແລະການນໍາຄວາມຮ້ອນສູງຂອງວັດສະດຸ SiC ຮັບປະກັນປະສິດທິພາບແລະຄວາມຫນ້າເຊື່ອຖືສູງໃນຂະບວນການປຸງແຕ່ງ semiconductor. ພວກເຮົາມຸ່ງຫມັ້ນທີ່ຈະສະຫນອງຜະລິດຕະພັນທີ່ມີຄຸນນະພາບສູງໃນລາຄາທີ່ແຂ່ງຂັນແລະຫວັງວ່າຈະກາຍເປັນຄູ່ຮ່ວມງານໄລຍະຍາວຂອງທ່ານໃນປະເທດຈີນ.

ຂະບວນການ ALD, ຫມາຍເຖິງຂະບວນການລະດັບຊັ້ນໃນປະລໍາມະນູ. ຜູ້ຜະລິດລະບົບ Vetek ແລະ ALD ໄດ້ພັດທະນາແລະຜະລິດ SUR SIC ໃນເວລາດຽວກັນ, ການເຄືອບ CVD PTIC ບໍລິສຸດຂອງພວກເຮົາຮັບປະກັນຄວາມບໍລິສຸດໃນຂະບວນການ. ຍິນດີຕ້ອນຮັບສູ່ສົນທະນາການຮ່ວມມືກັບພວກເຮົາ.

ວິທີການເຄືອບຂອງ VetEnDuctor Coated Graphite ໃຊ້ວິທີການເຄືອບ vapor ເຄມີ (CVD) ເພື່ອກະກຽມການເຄືອບ Carbide Carbide ຂອງ Tantalum. ຂະບວນການນີ້ແມ່ນຜູ້ໃຫຍ່ທີ່ສຸດແລະມີຄຸນສົມບັດການເຄືອບທີ່ດີທີ່ສຸດ. TAC coated graphite suscepite ສາມາດຂະຫຍາຍຊີວິດການບໍລິການຂອງສ່ວນປະກອບຂອງ Graphite, ແລະຮັບປະກັນວ່າຄຸນນະພາບຂອງ Epitaxy.we ກໍາລັງຊອກຫາການສອບຖາມຂອງທ່ານ.

Vetek Semiconductor ສະຫນອງການຕັດຂອບ Graphite Disc Susceptor. ການເຄືອບ SiC ສະຫນອງຄວາມຫມັ້ນຄົງຄວາມຮ້ອນທີ່ເຫນືອກວ່າ, ການຕໍ່ຕ້ານສານເຄມີທີ່ດີເລີດ, ແລະຄວາມສອດຄ່ອງຂອງຂະບວນການປັບປຸງ, ຮັບປະກັນການປະຕິບັດທີ່ດີທີ່ສຸດແລະຄວາມຫນ້າເຊື່ອຖື. ປະສົບການລະດັບຕໍ່ໄປຂອງປະສິດທິພາບແລະຄວາມແມ່ນຍໍາກັບ Vetek Semiconductor's SiC-coated Disc Susceptor.

Crucible Graphite ແມ່ນສ່ວນຫນຶ່ງທີ່ສໍາຄັນຂອງການຍົກເລີກ monocrystall ໃນຂະບວນການ ໃນການປະຕິບັດ, ຄຸນນະພາບ, ແລະປະສິດທິຜົນທີ່ມີຄ່າໃຊ້ຈ່າຍເພື່ອຕອບສະຫນອງຄວາມຕ້ອງການດ້ານວິວັດທະນາການຂອງອຸດສາຫະກໍາ.