ຜະລິດຕະພັນ

ບໍລິການສະຫນັບສະຫນູນ

View as  
 
ອາລູມີນຽມ Nitride (AlN) Wafers

ອາລູມີນຽມ Nitride (AlN) Wafers

VeTek Semiconductor ສະໜອງອາລູມີນຽມໄນທຼັດ (AlN) ແວເບີ ແລະຊັ້ນຮອງຊັ້ນໃນອາລູມີນຽມທີ່ມີຄຸນນະພາບສູງສໍາລັບອຸປະກອນເຊມິຄອນດັກເຕີ້ ultra-wide bandgap ລຸ້ນຕໍ່ໄປ. ມີຊ່ອງຫວ່າງກວ້າງສູງສຸດປະມານ 6.2 eV, ການນໍາຄວາມຮ້ອນທີ່ໂດດເດັ່ນ, ການສນວນໄຟຟ້າພິເສດ, ແລະການຈັບຄູ່ການຂະຫຍາຍຄວາມຮ້ອນທີ່ດີກັບ GaN, AlN wafers ແມ່ນເຫມາະສົມສໍາລັບອຸປະກອນ RF ທີ່ມີພະລັງງານສູງ, ເຄື່ອງໄຟຟ້າແຮງດັນສູງ, ແລະອຸປະກອນເອເລັກໂຕຣນິກ ultraviolet (DUV) ເລິກ.
CVD SiC Coating Graphite Parts ບໍລິການທໍາຄວາມສະອາດ

CVD SiC Coating Graphite Parts ບໍລິການທໍາຄວາມສະອາດ

ການບໍລິການທໍາຄວາມສະອາດແບບມືອາຊີບ VETEK ສໍາລັບ CVD SiC Coated Graphite Parts ແມ່ນການບໍລິການດ້ານວິຊາການພິເສດທີ່ຖືກອອກແບບມາສໍາລັບອຸປະກອນ susceptors Aixtron / Veeco MOCVD ແລະອົງປະກອບ graphite ທີ່ໃຊ້ໃນຂະບວນການ epitaxial GaN / AlN / AlGaN. ຂະບວນການທໍາຄວາມສະອາດທີ່ເປັນເຈົ້າຂອງຂອງພວກເຮົາຢ່າງລະອຽດກໍາຈັດຜົນກະທົບຂອງຫນ່ວຍຄວາມຈໍາພື້ນຜິວ, ຟື້ນຟູການໄຫຼຂອງອາຍແກັສທີ່ຫມັ້ນຄົງໃນເຕົາປະຕິກອນ, ແລະປົກປ້ອງການເຄືອບ 100 µm CVD SiC ຢ່າງເຂັ້ມງວດດ້ວຍຄວາມສູນເສຍຄວາມຫນາຢ່າງແທ້ຈິງແລະການຕົກຄ້າງຂອງໂລຫະສູນ.
PZT Piezoelectric Wafers (PZT on Si/SOI)

PZT Piezoelectric Wafers (PZT on Si/SOI)

ເນື່ອງຈາກຄວາມຕ້ອງການຂອງເຄື່ອງສົ່ງສັນຍານ MEMS ທີ່ມີຄວາມອ່ອນໄຫວສູງ ແລະພະລັງງານຕໍ່າເພີ່ມຂຶ້ນດ້ວຍການຂະຫຍາຍການສື່ສານ 5G, ອຸປະກອນການແພດທີ່ມີຄວາມແມ່ນຍໍາ, ແລະເຄື່ອງສວມໃສ່ອັດສະລິຍະ, PZT ຂອງພວກເຮົາໃນ Si/SOI wafers ສະຫນອງການແກ້ໄຂວັດສະດຸທີ່ສໍາຄັນ. ການນໍາໃຊ້ຂັ້ນຕອນການຊຶມເຊື້ອຂອງຮູບເງົາບາງໆແບບພິເສດເຊັ່ນ Sol-gel ຫຼື sputtering, ພວກເຮົາບັນລຸຄວາມສອດຄ່ອງພິເສດແລະປະສິດທິພາບ piezoelectric ດີກວ່າໃນ substrates ຊິລິຄອນ. wafers ເຫຼົ່ານີ້ເຮັດຫນ້າທີ່ເປັນຫຼັກພື້ນຖານສໍາລັບການປ່ຽນພະລັງງານກົນຈັກໄຟຟ້າ.
ຄວາມຕ້ານທານຂະຫນາດໃຫຍ່ຂະຫນາດໃຫຍ່ທີ່ມີຂະຫນາດໃຫຍ່ທີ່ເຮັດໃຫ້ເກີດຄວາມຮ້ອນ

ຄວາມຕ້ານທານຂະຫນາດໃຫຍ່ຂະຫນາດໃຫຍ່ທີ່ມີຂະຫນາດໃຫຍ່ທີ່ເຮັດໃຫ້ເກີດຄວາມຮ້ອນ

ການເຕີບໃຫຍ່ຂອງ Silicon Carbide Cast Crystal ແມ່ນຂະບວນການຫຼັກໃນການຜະລິດອຸປະກອນ semiconductor ທີ່ມີປະສິດຕິພາບສູງ. ສະຖຽນລະພາບ, ຄວາມແມ່ນຍໍາ, ແລະຄວາມເຂົ້າກັນໄດ້ຂອງອຸປະກອນການເຕີບໂຕຂອງ Crystal Crystal ກໍານົດຄຸນນະພາບແລະຜົນຜະລິດຂອງ silicon carbide carbide. ອີງໃສ່ຄຸນລັກສະນະຂອງການຂົນສົ່ງ Vapor ທາງດ້ານຮ່າງກາຍ (PVT), ໄປເຊຍກັນທີ່ມີຄວາມທົນທານຕໍ່ການປ່ຽນແປງຂອງ Silicon Carbide ທີ່ມີຄວາມແຕກຕ່າງກັນຢ່າງເຕັມທີ່, ເຄິ່ງລະບົບ SEMI-Insulative, ແລະ N-indices Syularing. ໂດຍຜ່ານການຄວບຄຸມອຸນຫະພູມທີ່ຊັດເຈນ, ແລະມີຄວາມຫນາແຫນ້ນໃນການໃຊ້ໃນ EPD (ໃນຂະນະທີ່ການອອກແບບຂອງ EPD) ແລະການອອກແບບທີ່ມີຄວາມຫນາແຫນ້ນ)
cmp poling slurry

cmp poling slurry

ປອກເປືອກຂັດ (ໂປໂລຍກົນຈັກ Slurry ທີ່ມີປະສິດຕິພາບສູງ) ແມ່ນວັດສະດຸທີ່ມີປະສິດຕິພາບສູງທີ່ໃຊ້ໃນການປຸງແຕ່ງວັດສະດຸທີ່ມີ semiconductor ແລະຄວາມຊັດເຈນ. ຫນ້າທີ່ຫຼັກຂອງມັນແມ່ນເພື່ອບັນລຸພື້ນຜິວທີ່ດີແລະການຂັດຂອງພື້ນຜິວດ້ານວັດຖຸພາຍໃຕ້ຜົນກະທົບຕໍ່ຕ້ານການກັດກ່ອນແລະຄວາມຕ້ອງການດ້ານກົນຈັກໃນລະດັບ nano ທີ່ລະດັບ Nano. ຊອກຫາຕໍ່ກັບການປຶກສາຫາລືຂອງທ່ານຕໍ່ໄປ.
cvd sic coating dummy wafer wafer

cvd sic coating dummy wafer wafer

ເປັນຜູ້ສະຫນອງແລະຜູ້ສະຫນອງ Sic Wefer ທີ່ນໍາຫນ້າຂອງຈີນ, Vetek Semiconductor CVD WEMAGE WEFER WEFER WEFER SICE WEFER SICE WEFER SICE SUMERDUTIVE ໃນການຜະລິດ semicon semicon ແລະຂະບວນການທົດສອບ Wafer. ການສອບຖາມຂໍ້ມູນເພີ່ມເຕີມຂອງທ່ານຍິນດີຕ້ອນຮັບ.
ໃນຖານະເປັນຜູ້ຜະລິດແລະຜູ້ສະຫນອງ ບໍລິການສະຫນັບສະຫນູນ ມືອາຊີບໃນປະເທດຈີນ, ພວກເຮົາມີໂຮງງານຜະລິດຂອງພວກເຮົາເອງ. ບໍ່ວ່າທ່ານຕ້ອງການບໍລິການທີ່ກໍາຫນົດເອງເພື່ອຕອບສະຫນອງຄວາມຕ້ອງການສະເພາະຂອງພາກພື້ນຂອງທ່ານຫຼືຕ້ອງການຊື້ ບໍລິການສະຫນັບສະຫນູນ ທີ່ກ້າວຫນ້າແລະທົນທານທີ່ຜະລິດໃນປະເທດຈີນ, ທ່ານສາມາດຝາກຂໍ້ຄວາມໃຫ້ພວກເຮົາ.
X
ພວກເຮົາໃຊ້ cookies ເພື່ອສະເຫນີໃຫ້ທ່ານມີປະສົບການການຊອກຫາທີ່ດີກວ່າ, ວິເຄາະການເຂົ້າຊົມເວັບໄຊທ໌ແລະປັບແຕ່ງເນື້ອຫາ. ໂດຍການນໍາໃຊ້ເວັບໄຊທ໌ນີ້, ທ່ານຕົກລົງເຫັນດີກັບການນໍາໃຊ້ cookies ຂອງພວກເຮົາ. ນະໂຍບາຍຄວາມເປັນສ່ວນຕົວ
ປະຕິເສດຍອມຮັບ