ຂະບວນການ RTA/RTP

VeTek Semiconductor ໃຫ້ RTA / RTP ຂະບວນການ wafer carrier, ເຮັດດ້ວຍ graphite ຄວາມບໍລິສຸດສູງແລະການເຄືອບ SiC ກັບimpurity ຕ່ໍາກວ່າ 5ppm.

furnace annealing ຢ່າງ​ວ່ອງ​ໄວ​ແມ່ນ​ປະ​ເພດ​ຂອງ​ອຸ​ປະ​ກອນ​ສໍາ​ລັບ​ການ​ປິ່ນ​ປົວ annealing ອຸ​ປະ​ກອນ​ການ​ແລະ​ຂະບວນການ RTA/RTP, ໂດຍການຄວບຄຸມຂະບວນການໃຫ້ຄວາມຮ້ອນແລະຄວາມເຢັນຂອງວັດສະດຸ, ມັນສາມາດປັບປຸງໂຄງສ້າງຜລຶກຂອງວັດສະດຸ, ຫຼຸດຜ່ອນຄວາມກົດດັນພາຍໃນ, ແລະປັບປຸງຄຸນສົມບັດກົນຈັກແລະທາງດ້ານຮ່າງກາຍຂອງວັດສະດຸ. ຫນຶ່ງໃນອົງປະກອບຫຼັກຢູ່ໃນຫ້ອງຂອງ furnace annealing ໄວແມ່ນ wafer carrier /.ເຄື່ອງຮັບ waferສໍາລັບການໂຫຼດ wafers. ໃນຖານະເປັນເຄື່ອງເຮັດຄວາມຮ້ອນ wafer ຢູ່ໃນຫ້ອງຂະບວນການ, ນີ້ແຜ່ນບັນທຸກມີບົດບາດສໍາຄັນໃນການປິ່ນປົວຄວາມຮ້ອນແລະອຸນຫະພູມທີ່ເທົ່າທຽມກັນຢ່າງໄວວາ.

ແຜ່ນ silicon carbide, ອາລູມິນຽມ nitride ແລະ graphite silicon carbide ແມ່ນວັດສະດຸທີ່ມີຢູ່ສໍາລັບ furnace annealing ໄວ, ແລະທາງເລືອກຕົ້ນຕໍໃນຕະຫຼາດແມ່ນ graphite ແລະ.ການເຄືອບ silicon carbide ເປັນວັດສະດຸ. 

ຕໍ່ໄປນີ້ແມ່ນຄຸນ​ນະ​ສົມ​ບັດ​ແລະ​ການ​ປະ​ຕິ​ບັດ​ທີ່​ດີ​ເລີດ​ຂອງ VeTek Semiconductor SiC coated RTA RTP process wafer carrier:

-ຄວາມຫມັ້ນຄົງຂອງອຸນຫະພູມສູງ: ການເຄືອບ SiC ສະແດງໃຫ້ເຫັນຄວາມຫມັ້ນຄົງຂອງອຸນຫະພູມສູງທີ່ໂດດເດັ່ນ, ຮັບປະກັນຄວາມສົມບູນຂອງໂຄງສ້າງແລະຄວາມເຂັ້ມແຂງກົນຈັກເຖິງແມ່ນວ່າຢູ່ໃນອຸນຫະພູມທີ່ຮຸນແຮງ. ຄວາມສາມາດນີ້ເຮັດໃຫ້ມັນເຫມາະສົມສູງສໍາລັບຂະບວນການປິ່ນປົວຄວາມຮ້ອນທີ່ຕ້ອງການ.

-ການ​ນໍາ​ໃຊ້​ຄວາມ​ຮ້ອນ​ທີ່​ດີ​ເລີດ​: ຊັ້ນເຄືອບ SiC ມີຄຸນສົມບັດການນໍາຄວາມຮ້ອນພິເສດ, ເຮັດໃຫ້ການແຜ່ກະຈາຍຄວາມຮ້ອນໄດ້ໄວ ແລະເປັນເອກະພາບ. ນີ້ຫມາຍຄວາມວ່າການປຸງແຕ່ງຄວາມຮ້ອນໄວຂຶ້ນ, ຫຼຸດຜ່ອນເວລາຄວາມຮ້ອນຢ່າງຫຼວງຫຼາຍແລະເພີ່ມຜົນຜະລິດໂດຍລວມ. ໂດຍການປັບປຸງປະສິດທິພາບການຖ່າຍທອດຄວາມຮ້ອນ, ມັນປະກອບສ່ວນໃຫ້ປະສິດທິພາບການຜະລິດທີ່ສູງຂຶ້ນແລະຄຸນນະພາບຜະລິດຕະພັນທີ່ດີກວ່າ.

-ຄວາມອິດເມື່ອຍທາງເຄມີ: ການ inertness ເຄມີປະກົດຂຶ້ນຂອງ silicon carbide ສະຫນອງການຕໍ່ຕ້ານທີ່ດີເລີດຕໍ່ການ corrosion ຈາກສານເຄມີຕ່າງໆ. ຜູ້ໃຫ້ບໍລິການ wafer ແຜ່ນ silicon carbide ເຄືອບຄາບອນຂອງພວກເຮົາສາມາດປະຕິບັດການທີ່ເຊື່ອຖືໄດ້ໃນສະພາບແວດລ້ອມເຄມີທີ່ຫຼາກຫຼາຍໂດຍບໍ່ມີການປົນເປື້ອນຫຼືທໍາລາຍ wafers.

-ພື້ນຜິວແປ: ຊັ້ນ CVD silicon carbide ຮັບປະກັນດ້ານຮາບພຽງແລະລຽບ, ຮັບປະກັນການຕິດຕໍ່ທີ່ຫມັ້ນຄົງກັບ wafers ໃນລະຫວ່າງການປຸງແຕ່ງຄວາມຮ້ອນ. ນີ້ລົບລ້າງການນໍາສະເຫນີຂໍ້ບົກພ່ອງດ້ານຫນ້າດິນເພີ່ມເຕີມ, ຮັບປະກັນຜົນໄດ້ຮັບການປຸງແຕ່ງທີ່ດີທີ່ສຸດ.

-ນ້ໍາຫນັກເບົາແລະຄວາມເຂັ້ມແຂງສູງ: ເຄື່ອງບັນຈຸ wafer RTP ເຄືອບ SiC ຂອງພວກເຮົາມີນ້ຳໜັກເບົາ ແຕ່ມີຄວາມເຂັ້ມແຂງທີ່ໂດດເດັ່ນ. ລັກສະນະນີ້ເຮັດໃຫ້ສະດວກແລະເຊື່ອຖືໄດ້ໃນການໂຫຼດແລະ unloading ຂອງ wafers.

ວິທີການໃຊ້ RTA RTP Process wafer carrier:

ເຄື່ອງຮັບ wafer ເຄືອບ SiC ຂອງ VeTek Semiconductor ແລະປົກຫຸ້ມຂອງຕົວຮັບ

ເຄື່ອງຮັບ RTA RTP ຜູ້ໃຫ້ບໍລິການ wafer RTA RTP ຖາດ RTP (ສໍາລັບການປິ່ນປົວຄວາມຮ້ອນຢ່າງໄວວາ RTA) ຖາດ RTP (ສໍາລັບການປິ່ນປົວຄວາມຮ້ອນຢ່າງໄວວາ RTA) ຕົວຮັບ RTP RTP Wafer ຖາດສະຫນັບສະຫນູນ