ການເຄືອບ Tantalum Carbide

VeTek semiconductor ເປັນຜູ້ຜະລິດຊັ້ນນໍາຂອງອຸປະກອນການເຄືອບ Tantalum Carbide ສໍາລັບອຸດສາຫະກໍາ semiconductor. ການສະເຫນີຜະລິດຕະພັນຕົ້ນຕໍຂອງພວກເຮົາປະກອບມີຊິ້ນສ່ວນການເຄືອບ CVD tantalum carbide, ພາກສ່ວນການເຄືອບ TaC sintered ສໍາລັບການຂະຫຍາຍຕົວໄປເຊຍກັນ SiC ຫຼືຂະບວນການ epitaxy semiconductor. ຜ່ານ ISO9001, VeTek Semiconductor ມີການຄວບຄຸມທີ່ດີກ່ຽວກັບຄຸນນະພາບ. VeTek Semiconductor ແມ່ນອຸທິດຕົນເພື່ອກາຍເປັນຜູ້ປະດິດສ້າງໃນອຸດສາຫະກໍາການເຄືອບ Tantalum Carbide ຜ່ານການຄົ້ນຄວ້າຢ່າງຕໍ່ເນື່ອງແລະການພັດທະນາເຕັກໂນໂລຢີທີ່ຊ້ໍາກັນ.

ຜະລິດຕະພັນຕົ້ນຕໍແມ່ນແຫວນຄູ່ມືການເຄືອບ TaC, ວົງແຫວນຄູ່ມືສາມກີບ CVD TaC ເຄືອບ, Tantalum Carbide TaC ເຄືອບ Halfmoon, CVD TaC coating planetary SiC epitaxial susceptor, ວົງການເຄືອບ Tantalum Carbide, Tantalum Carbide ເຄືອບ Porous Graphite, TaC Coating Rotation Susceptor, ແຫວນ Tantalum Carbide, ແຜ່ນຫມຸນການເຄືອບ TaC, TaC coated wafer susceptor, TaC ເຄືອບ Deflector Ring, ແຜ່ນເຄືອບ CVD TaC, TaC ເຄືອບ Chuckແລະອື່ນໆ, ຄວາມບໍລິສຸດແມ່ນຕ່ໍາກວ່າ 5ppm, ສາມາດຕອບສະຫນອງຄວາມຕ້ອງການຂອງລູກຄ້າ.

TaC coating graphite ຖືກສ້າງຂື້ນໂດຍການເຄືອບພື້ນຜິວຂອງ substrate graphite ທີ່ມີຄວາມບໍລິສຸດສູງດ້ວຍຊັ້ນອັນດີງາມຂອງ tantalum carbide ໂດຍຂະບວນການປ່ອຍອາຍພິດທາງເຄມີ (CVD) ທີ່ເປັນເຈົ້າຂອງ. ປະໂຫຍດແມ່ນສະແດງໃຫ້ເຫັນໃນຮູບຂ້າງລຸ່ມນີ້:

Excellent properties of TaC coating graphite

ການເຄືອບ tantalum carbide (TaC) ໄດ້ຮັບຄວາມສົນໃຈເນື່ອງຈາກຈຸດລະລາຍສູງເຖິງ 3880 ° C, ຄວາມເຂັ້ມແຂງກົນຈັກທີ່ດີເລີດ, ຄວາມແຂງ, ແລະຄວາມຕ້ານທານຕໍ່ຄວາມຮ້ອນ, ເຮັດໃຫ້ມັນເປັນທາງເລືອກທີ່ຫນ້າສົນໃຈສໍາລັບຂະບວນການປະສົມ semiconductor epitaxy ທີ່ມີຄວາມຕ້ອງການອຸນຫະພູມສູງກວ່າ, ເຊັ່ນ: ລະບົບ Aixtron MOCVD ແລະ LPE SiC epitaxy process.It ຍັງມີຄໍາຮ້ອງສະຫມັກກ້ວາງໃນ PVT ວິທີການ SiC ຂະບວນການການຂະຫຍາຍຕົວໄປເຊຍກັນ.

ຄຸນນະສົມບັດທີ່ສໍາຄັນ:

●ຄວາມຫມັ້ນຄົງຂອງອຸນຫະພູມ

●ຄວາມບໍລິສຸດສູງພິເສດ

●ຄວາມຕ້ານທານກັບ H2, NH3, SiH4, Si

●ຄວາມຕ້ານທານກັບຫຼັກຊັບຄວາມຮ້ອນ

●ການຍຶດເກາະທີ່ເຂັ້ມແຂງກັບ graphite

●ການຄຸ້ມຄອງການເຄືອບທີ່ສອດຄ່ອງ

● ຂະຫນາດເຖິງເສັ້ນຜ່າສູນກາງ 750 ມມ (ຜູ້ຜະລິດດຽວໃນປະເທດຈີນເຖິງຂະຫນາດນີ້)

ຄໍາຮ້ອງສະຫມັກ:

●ຜູ້ໃຫ້ບໍລິການ Wafer

● ຕົວຮັບຄວາມຮ້ອນແບບ inductive

● ອົງປະກອບຄວາມຮ້ອນທີ່ທົນທານ

●ແຜ່ນດາວທຽມ

●ອາບຫົວ

●ແຫວນຄູ່ມື

●ເຄື່ອງຮັບ Epi LED

●ຫົວສີດ

●ວົງແຫວນ

● ແຜ່ນປ້ອງກັນຄວາມຮ້ອນ

ການເຄືອບ Tantalum carbide (TaC) ເທິງກ້ອງຈຸລະທັດ:

the microscopic cross-section of Tantalum carbide (TaC) coating

ພາລາມິເຕີຂອງ VeTek Semiconductor Tantalum Carbide Coating:

ຄຸນສົມບັດທາງກາຍະພາບຂອງການເຄືອບ TaC
ຄວາມຫນາແຫນ້ນ	14.3 (g/cm³)
ການປ່ອຍອາຍພິດສະເພາະ	0.3
ຄ່າສໍາປະສິດການຂະຫຍາຍຄວາມຮ້ອນ	6.3 10^-6/ກ
ຄວາມແຂງ (HK)	2000 HK
ການຕໍ່ຕ້ານ	1×10^-5ໂອມ*ຊມ
ຄວາມຫມັ້ນຄົງຂອງຄວາມຮ້ອນ	<2500℃
ການປ່ຽນແປງຂະຫນາດຂອງ Graphite	-10~20 ນ
ຄວາມຫນາຂອງເຄືອບ	≥20um ຄ່າປົກກະຕິ (35um±10um)

ຂໍ້ມູນການເຄືອບ TaC EDX：

EDX data of TaC coating

ຂໍ້ມູນໂຄງສ້າງການເຄືອບ TaC:

ອົງປະກອບ	ເປີເຊັນປະລໍາມະນູ
	ປທ. 1	ປທ. 2	ປທ. 3	ສະເລ່ຍ
C K	52.10	57.41	52.37	53.96
ມ	47.90	42.59	47.63	46.04

TaC ເຄືອບ Chuck TaC Coating Planetary Disk
ແຜ່ນເຄືອບ TaC ແຜ່ນຫມຸນການເຄືອບ TaC ຕົວຮັບການເຄືອບ TaC ຝາປິດການເຄືອບ CVD TaC ວົງການເຄືອບ CVD TaC ແຜ່ນເຄືອບ TaC

View as

TAC Counated Ring ສໍາລັບການຂະຫຍາຍຕົວຂອງ PVT ຂອງ SICY SICY SOLICAL

ໃນຖານະເປັນຫນຶ່ງໃນຜູ້ສະຫນອງຜະລິດຕະພັນຜະລິດຕະພັນທີ່ນໍາຫນ້າຢູ່ໃນປະເທດຈີນ, Vetek semiconductor ແມ່ນສາມາດໃຫ້ລູກຄ້າມີຄຸນນະພາບສູງທີ່ມີສ່ວນຮ່ວມໃນການເຄືອບສ່ວນທີ່ເຫມາະສົມ. ແຫວນເຄືອບ TAC ສໍາລັບການຂະຫຍາຍຕົວຂອງ PVT STICAL STALLY SICE ແມ່ນຫນຶ່ງໃນຜະລິດຕະພັນທີ່ຍັງຄ້າງຄາແລະຜະລິດຕະພັນທີ່ໃຫຍ່ທີ່ສຸດ. ມັນມີບົດບາດສໍາຄັນໃນການຂະຫຍາຍຕົວຂອງ PVT ຂອງຂະບວນການຂອງ SIC Crystal Crystal ແລະສາມາດຊ່ວຍໃຫ້ລູກຄ້າມີຄຸນນະພາບສູງທີ່ມີຄຸນນະພາບສູງ. ຊອກຫາຕໍ່ກັບການສອບຖາມຂອງທ່ານ.

ເບິ່ງເພີ່ມເຕີມ >> ສົ່ງສອບຖາມ >>

ວົງແຫວນຄູ່ມື CVD TAC ເຄືອບແຫວນສາມໃບ

ນັກວິທະຍາສາດ Vetek ໄດ້ປະສົບກັບການພັດທະນາເຕັກໂນໂລຢີຫຼາຍປີແລະໄດ້ສະແດງເຕັກໂນໂລຢີຂະບວນການຊັ້ນນໍາຂອງ CVD Tac Coating. ຜະລິດຕະພັນຄູ່ມືເຄືອບ CVD ທີ່ໃຊ້ໃນ CVD Tac ທີ່ໃຫຍ່ທີ່ສຸດຂອງ vetek. ດ້ວຍຄວາມຊ່ອຍເຫລືອຂອງ Vetek semiconductor, ຂ້າພະເຈົ້າເຊື່ອວ່າການຜະລິດຂອງທ່ານ Sic ຂອງທ່ານຈະກ້ຽງແລະມີປະສິດທິພາບຫຼາຍຂຶ້ນ.

ເບິ່ງເພີ່ມເຕີມ >> ສົ່ງສອບຖາມ >>

tantalum carbide corbide corbide

ແຫວນເຄືອບ Setek Sementalum Carbide Corbide Carbide Corbide ແມ່ນສ່ວນປະກອບທີ່ຂາດບໍ່ໄດ້ໃນອຸດສາຫະກໍາ semiconductor, ໂດຍສະເພາະໃນການແກ້ໄຂບັນຍາກາດ SCHIC. ການປະສົມປະສານຂອງມັນຂອງພື້ນຖານ Graphite ແລະການເຄືອບ TAC Tac ຮັບປະກັນການປະຕິບັດງານທີ່ສູງກວ່າໃນສະພາບແວດລ້ອມທີ່ມີສານອາຫານສູງແລະມີສານເຄມີ. ດ້ວຍຄວາມທົນທານຂອງຄວາມຮ້ອນຂອງມັນທີ່ປັບປຸງ, ແລະຄວາມແຮງທີ່ກົນຈັກ, ແຫວນທີ່ມີການເຄືອບ Semiconductor ຊ່ວຍໃຫ້ຄວາມຫນ້າເຊື່ອຖື, ຄວາມຫນ້າເຊື່ອຖື, ແລະຜົນໄດ້ຮັບສູງໃນຂະບວນການຜະລິດຂອງມັນ.

ເບິ່ງເພີ່ມເຕີມ >> ສົ່ງສອບຖາມ >>

ແຫວນເຄືອບ TAC

TaC Coating Ring ເປັນອົງປະກອບທີ່ມີປະສິດທິພາບສູງທີ່ຖືກອອກແບບມາເພື່ອໃຊ້ໃນຂະບວນການ semiconductor, VeTek semiconductor TaC Coating Ring ມີຄວາມຫມັ້ນຄົງຄວາມຮ້ອນສູງ, ທົນທານຕໍ່ການກັດກ່ອນຂອງສານເຄມີ, ແລະມີຄວາມເຂັ້ມແຂງກົນຈັກທີ່ດີເລີດແລະຖືກນໍາໃຊ້ໂດຍສະເພາະເພື່ອຍຶດແລະສະຫນັບສະຫນູນ SiC wafers ໃນລະຫວ່າງການຂະບວນການ etching, ບ່ອນທີ່ການຄວບຄຸມທີ່ຊັດເຈນແລະຄວາມທົນທານເປັນສິ່ງຈໍາເປັນສໍາລັບການບັນລຸ wafers ທີ່ມີຄຸນນະພາບສູງ. ພວກເຮົາລໍຖ້າໃຫ້ຄໍາປຶກສາເພີ່ມເຕີມຂອງທ່ານ.

ເບິ່ງເພີ່ມເຕີມ >> ສົ່ງສອບຖາມ >>

ການເຄືອບ tac craucible

ໃນຖານະເປັນຜູ້ສະຫນອງການເຄືອບ tac ມືອາຊີບທີ່ເປັນມືອາຊີບໃນປະເທດຈີນ, ການເຄືອບການເຕີບໂຕຂອງ Vetek SemetOnDuctor ໃນ Semiconductors Condening ຂອງຕົນ, ຄວາມຫມັ້ນຄົງທາງເຄມີທີ່ໂດດເດັ່ນແລະມີຄວາມທົນທານໃນການກັດກ່ອນ. ຍິນດີຕ້ອນຮັບການສອບຖາມຕໍ່ໄປ.

ເບິ່ງເພີ່ມເຕີມ >> ສົ່ງສອບຖາມ >>

ແຫວນຄູ່ມືການເຄືອບ Tantalum Carbide

ໃນຖານະທີ່ຜູ້ສະຫນອງແຫວນສາຍສໍາລັບການເຊື່ອມຕໍ່ແລະຜູ້ຜະລິດແຫວນສໍາຄັນທີ່ສຸດຂອງຈີນ. ແຫວນສໍາຄັນ ມັນສົ່ງເສີມການຝາກເງິນໄປເຊຍກັນດ່ຽວຂອງ SIC ໃນເຂດການເຕີບໂຕຂອງ SIC ໂດຍດັດປັບການແຈກຢາຍແລະຄວາມໄວຂອງກະແສແກັດ. ຜູ້ຜະລິດ Vetek ແມ່ນຜູ້ຜະລິດແລະຜູ້ສະຫນອງພາສາຄູ່ມືການນໍາໃຊ້ TAC ໃນປະເທດຈີນແລະແມ້ແຕ່ຢູ່ໃນໂລກ, ແລະພວກເຮົາຫວັງວ່າຈະໄດ້ປຶກສາຫາລືຂອງທ່ານ.

ເບິ່ງເພີ່ມເຕີມ >> ສົ່ງສອບຖາມ >>

ໃນຖານະເປັນຜູ້ຊ່ຽວຊານ ການເຄືອບ Tantalum Carbide} ແລະຜູ້ສະຫນອງສິນຄ້າໃນປະເທດຈີນ, ພວກເຮົາມີໂຮງງານຂອງພວກເຮົາເອງ. ບໍ່ວ່າທ່ານຕ້ອງການບໍລິການຕາມກົດລະບຽບເພື່ອຕອບສະຫນອງຄວາມຕ້ອງການສະເພາະຂອງພາກພື້ນຂອງທ່ານຫຼືຕ້ອງການຊື້ທີ່ກ້າວຫນ້າແລະທົນທານ ການເຄືອບ Tantalum Carbide ທີ່ຢູ່ໃນປະເທດຈີນ, ທ່ານສາມາດຝາກຂໍ້ຄວາມໃຫ້ພວກເຮົາ.

ລະຫັດ QR

ກ່ຽວກັບພວກເຮົາ

ຜະລິດຕະພັນ

ຕິດຕໍ່ພວກເຮົາ

ໂທລະສັບ
+86-18069220752
ແຟັກ
+86-579-87223657
ອີເມລ
anny@veteksemi.com
ທີ່ຢູ່
ຖະຫນົນ Wangda, ຖະຫນົນ Ziyang, County Wuyi, ເມືອງ Jinhua, ແຂວງ Zhejiang, ປະເທດຈີນ

ເມນູເວັບ

ຄົ້ນຫາຜະລິດຕະພັນ

ພາສາ

ອອກຈາກເມນູ