Wafer

wafer substrateແມ່ນ wafer ທີ່ຜະລິດຈາກອຸປະກອນການຈອດລົດດ່ຽວ semiconductor ດຽວ. ຊັ້ນໃຕ້ດິນສາມາດໃສ່ຂະບວນການຜະລິດ wafer ໂດຍກົງເພື່ອຜະລິດອຸປະກອນ semitorenductor, ຫຼືມັນສາມາດຖືກປຸງແຕ່ງໂດຍຂະບວນການ Epitaxial ເພື່ອຜະລິດເຄື່ອງ wafers ebitaxial.

Wafer substrate, ຍ້ອນວ່າໂຄງປະກອບການສະຫນັບສະຫນູນຂັ້ນພື້ນຖານຂອງອຸປະກອນ semiconductor, ມີຜົນກະທົບໂດຍກົງແລະຄວາມຫມັ້ນຄົງຂອງອຸປະກອນຕ່າງໆ. ໃນຖານະເປັນ "ມູນນິທິ" ສໍາລັບການຜະລິດອຸປະກອນ semiconductor, ຊຸດຂອງຂະບວນການຜະລິດແບບຫນຶ່ງເຊັ່ນ: ການເຕີບໃຫຍ່ຂອງຮູບເງົາແລະຄວາມຕ້ອງການ lithography.

ບົດສະຫຼຸບຂອງປະເພດຊັ້ນໃຕ້ດິນ:

 ●Silicon Crystal Crystal Silicon: ປະຈຸບັນແມ່ນອຸປະກອນການທີ່ມັກທີ່ສຸດໃນການຜະລິດວົງຈອນທີ່ປະສົມປະສານ (ICS), memoriccessors, ອຸປະກອນໄຟຟ້າ, ອຸປະກອນໄຟຟ້າ, ແລະອື່ນໆ;

 ●soi substrate: ໃຊ້ສໍາລັບການປະຕິບັດທີ່ມີປະສິດຕິພາບສູງ, ມີວົງຈອນປະສົມປະສານທີ່ມີພະລັງງານຕ່ໍາ, ເຊັ່ນ: ວົງຈອນຄ້າຍຄືກັນແລະດິຈິຕອນທີ່ມີຄວາມຖີ່ສູງ, ອຸປະກອນຄວບຄຸມແລະຊິບພະລັງງານ;

 ●ຊັ້ນໃຕ້ດິນ semiconductor ປະສົມSubstrate Gallium Arsenide (Gaas): ອຸປະກອນ microwave ແລະເຄື່ອງຈັກສື່ສານຄື້ນ, ແລະອື່ນໆ)slectrate silicon carbide (sic): ໃຊ້ສໍາລັບຍານພາຫະນະໄຟຟ້າ, ເຄື່ອງປ່ຽນພະລັງງານແລະອຸປະກອນໄຟຟ້າອື່ນໆ Indium phosphide substrate (Inp): ໃຊ້ສໍາລັບ lasers, pp alls all ພອຍ;

 ●sapphire substrate: ໃຊ້ສໍາລັບການຜະລິດ LED, RICF (ຄວາມຖີ່ຂອງການວິທະຍຸຂອງວົງຈອນ), ແລະອື່ນໆ;

ນັກວິທະຍາສາດ Vetek ແມ່ນ substrate sic ມືອາຊີບແລະ soi secondrate ຜູ້ສະຫນອງສິນຄ້າໃນປະເທດຈີນ. ຂອງພວກເຮົາ4h substrate sic semi semi-insulatingແລະ4h semi semi super sublerate sic sic sicຖືກນໍາໃຊ້ຢ່າງກວ້າງຂວາງໃນສ່ວນປະກອບສໍາຄັນຂອງອຸປະກອນການຜະລິດ semiconductor. 

semicondor Semiconductor ແມ່ນມຸ້ງຫມັ້ນທີ່ຈະໃຫ້ຜະລິດຕະພັນຍ່ອຍທີ່ດີທີ່ສຸດແລະສາມາດປັບແຕ່ງໄດ້ແລະແກ້ໄຂບັນຫາເຕັກນິກຕ່າງໆສໍາລັບອຸດສາຫະກໍາ semiconductor. ພວກເຮົາຫວັງຢ່າງຈິງໃຈໃຫ້ກາຍເປັນຜູ້ສະຫນອງຂອງທ່ານໃນປະເທດຈີນ.