ສີ່ຜູ້ຜະລິດ Graphite ທີ່ມີປະສິດທິພາບສູງທີ່ສຸດໃນໂລກ - Vetek

SGL, Toyo Toyo, Tokai Carbon, Mersi ແລະຍີ່ຫໍ້ Graphite ອື່ນໆແມ່ນໄດ້ຮັບຄວາມນິຍົມຈາກຜູ້ຜະລິດໃນ semiconductic, photovolica ແລະທົ່ງນາອື່ນໆ. ສະນັ້ນ, ມັນຈໍາເປັນຕ້ອງຮູ້ຜະລິດຕະພັນຫຼັກຂອງພວກເຂົາ.

ພື້ນທີ່ graphite ແບບທໍາມະດາຂອງ SGL ແລະສະຫມັກ:

● R8500 ຊຸດ: ໃຊ້ໃນ photovoltics, semiconductors ແລະການປຸງແຕ່ງອຸນຫະພູມສູງ.

● ຊຸດ R7300 ຊຸດ: ຄວາມບໍລິສຸດສູງ, ໂດຍສະເພາະແມ່ນເຫມາະສົມສໍາລັບການນໍາໃຊ້ semiconductor.

● R6500 ຊຸດ: ການປະຕິບັດງານທີ່ດີເລີດ, ເຫມາະສົມກັບອຸນຫະພູມສູງຕ່າງໆ, ມີການໂຫຼດສູງແລະມີຄໍາຮ້ອງສະຫມັກທີ່ຊັດເຈນ. ໃຊ້ສ່ວນໃຫຍ່ແມ່ນໃຊ້ໃນການຜະລິດ semiconductor, ອຸດສາຫະກໍາ photovoltaic, ໂລຫະປະສົມແລະບ່ອນທີ່ອຸນຫະພູມສູງອື່ນໆ.

ພາລາມິເຕີດ້ານວິຊາການ:

	r8510	r6510	R7300	R8500	r8710
ຂະຫນາດເມັດພືດສະເລ່ຍμm	10	10	20	10	3
ຄວາມຫນາແຫນ້ນຄວາມຫນາແຫນ້ນ g / cm	1.77	1.83	1.73	1.77	1.8
ເປີດ porosity vol.%	14	10	14	14	10
ເສັ້ນຜ່າສູນກາງທາງເຂົ້າຂະຫນາດກາງμm	1.8	1.8	1.6	1.8	0.6
ຕົວຄູນຂອງ permeability (ອຸນຫະພູມອາກາດລ້ອມຮອບ) cm2 / s	0.25	0.06	0.1	0.25	0.01
Rockwell Hardness hr₅ / ₁₀₀	70	85	75	70	105
ຕ້ານທານωωm	14	12	16	14	13
ຄວາມເຂັ້ມແຂງ flexural mpa	50	60	40	50	85
MPA ຄວາມເຂັ້ມແຂງທີ່ບີບອັດ	110	130	85	110	170
modulus ແບບເຄື່ອນໄຫວຂອງ elasticity mpa	10.5 x 10³³³³³³³	11.5 x 10³	10 x 10³	10.5 x 10³³³³³³³	10.5 x 10³³³³³³³
ການຂະຫຍາຍຄວາມຮ້ອນ (20 - 200 200 ° C) K⁻¹	4.2 x	4.2 x	2.7 x	4.2 x	4.7 x
ການປະຕິບັດຄວາມຮ້ອນ (20 ° C) wm⁻¹k⁻¹	95	110	70	95	105
ເນື້ອໃນຂີ້ເທົ່າ ppm	200	/	200	200	200

TOYo graphite graphite ທໍາມະດາແລະພື້ນທີ່ຄໍາຮ້ອງສະຫມັກ:

● ຊຸດຂອງ IG: graphite isostatic, ໃຊ້ຢ່າງກວ້າງຂວາງໃນ semiconductor, photovolica, ໂລຫະ, ອຸດສາຫະກໍາທີ່ມີຄວາມລະມັດແລະສູງ

● ຊື່ຊຸດ: Graphite ISOstatic ທີ່ມີປະສິດຕິພາບສູງ, ຖືກນໍາໃຊ້ຢ່າງກວ້າງຂວາງໃນ EDM, ການຜະລິດທີ່ຜະລິດ, semiconductor ແລະທົ່ງນາ photovoltic

● ຊຸດ iso: Graphite ISOstatic ທີ່ມີປະສິດຕິພາບສູງ, ສ່ວນໃຫຍ່ແມ່ນສໍາລັບການນໍາໃຊ້ອຸດສາຫະກໍາທີ່ຕ້ອງການຄວາມບໍລິສຸດສູງ, ຄວາມເຂັ້ມແຂງສູງແລະຄວາມຕ້ານທານສູງ

● ຊຸດ TTK: ສໍາລັບ EDM, ການຜະລິດແມ່ພິມແລະຂົງເຂດການປຸງແຕ່ງຄວາມແມ່ນຍໍາສູງອື່ນໆ

● ຊຸດ HPG: ເຫມາະສໍາລັບອຸປະກອນແລະສ່ວນປະກອບພາຍໃຕ້ເງື່ອນໄຂທີ່ມີຄວາມແມ່ນຍໍາສູງແລະສະເພາະຢູ່ໃນເງື່ອນໄຂ, ໂດຍສະເພາະແມ່ນເອເລັກໂຕຣນິກ, semiconductor, photovortaic ແລະອຸດສະຫະກໍາອື່ນໆ

ພາລາມິເຕີດ້ານວິຊາການ:

ຊັ້ນ		and-11	ig-70	ຊື່-1	ຊື່-8	iso-63	TTK-55	HPG-30	HPG-59
ຄວາມຫນາແຫນ້ນຂອງສ່ວນໃຫຍ່	mg / ມ³	1.77	1.83	1.68	1.78	1.78	1.8	1.8	1.91
ແຂງ	HSD	51	58	45	63	76	73	74	88
ຄວາມຕ້ານທານໄຟຟ້າ	yωωω	11	10	13.5	13.4	15	15.3	15.3	13.5
ຄວາມເຂັ້ມແຂງ flexural	MPA	39	47	36	52	65	63	65	100
ຄວາມເຂັ້ມແຂງທີ່ບີບອັດ	MPA	78	103	69	106	135	139	142	210
ຄວາມເຂັ້ມແຂງ tensile	MPA	25	31	20	34	46	48	50	74
Modulus ຂອງ Young	GPA	9.8	11.8	8.8	10.1	12	11.2	11.3	12.7
ຕົວຄູນຂອງການຂະຫຍາຍຄວາມຮ້ອນ	10^-6/ k	4.5	4.6	4.2	5.6	5.6	5.6	5.6	5.7
ການປະຕິບັດຄວາມຮ້ອນ	W / (M · k)	120	130	90	90	70	86	86	95

Tokai 'SMALFIFITE GRANCE ແລະພື້ນທີ່ສະຫມັກ:

● HK1: ເຄື່ອງຈັກຫຍາບຂອງການປັ້ນດິນເຜົາໃຫຍ່ແລະການສະຫມັກທີ່ຂັບຂີ່.

● HK2: ຫຍາບຄາຍແລະສິ້ນສຸດຂອງກາງຫາຄວາມຖືກຕ້ອງສູງທີ່ສຸດ, ແມ່ພິມທີ່ມີຄວາມລະອຽດແລະກົດເຄື່ອງມື.

● HK3: HK-3 ແມ່ນຊັ້ນຕົ້ນຂອງ Premier, ໃຊ້ທີ່ດີທີ່ສຸດໃນລະດັບຄວາມລະອຽດແລະຄວາມຕ້ານທານທີ່ດີທີ່ສຸດ .e. ອຸດສາຫະກໍາທີ່ມີຄຸນນະພາບສູງ ອັດຕາສ່ວນອັດຕາ mrr mrr.

● HK -75: HK-75 ແມ່ນຊັ້ນຮູບພາບທີ່ດີທີ່ສຸດແລະຖືກນໍາໃຊ້ຢູ່ທີ່ນີ້ທີ່ຢູ່ທີ່ນີ້ດ້ານເທິງຂອງພື້ນທີ່ສໍາເລັດຮູບແລະສະພາບການສວມໃສ່ທີ່ດີແມ່ນສໍາຄັນ. ມັນຍັງໃຫ້ຄຸນສົມບັດຂອງເຄື່ອງຈັກງ່າຍໆຂອງນິຍາມສູງໃນມູມແລະຂໍ້ມູນ. ມັນຖືກນໍາໃຊ້ທີ່ດີທີ່ສຸດໃນຕອນທ້າຍທີ່ມີຄຸນນະພາບສູງຂອງຂະບວນການຜະລິດ mold.

ພາລາມິເຕີດ້ານວິຊາການ:

ຊັ້ນ		HK-1	HK-2	HK-3	HK -75
ແຮງໂນ້ມຖ່ວງ	g / ຊມ³	1.85	1.82	1.84	1.82
ຄວາມຕ້ານທານສະເພາະ	yωωω	11	13.5	15.5	16.5
ຄວາມເຂັ້ມແຂງ flexural	MPA	50	64	88	66
ແຂງ	ຮິມຝັ່ງ	58	64	78	72
ຂະຫນາດເມັດພືດສະເລ່ຍ	μm	11	7	2	4

ຮູບພາບກາຟິກແບບທໍາມະດາຂອງ Merersen ແລະພື້ນທີ່ສະຫມັກ:

● Graphite isstatic: ເຫມາະສໍາລັບສ່ວນປະກອບ CVD ແລະ crucibles ໃນ semiconductor ແລະອຸດສາຫະກໍາ photovoltaic. ພ້ອມທັງສ່ວນປະກອບການຜະລິດສໍາລັບຊິລິໂຄຕິກແລະຊິລິໂຄນ polycrystalline, ໂດຍສະເພາະໃນສະພາບແວດລ້ອມທີ່ມີອຸນຫະພູມສູງ.

● ຊຸດ Ellor + Series: ການປະຕິສັງຂອນ, ການນຸ່ງຖືທີ່ທົນທານຕໍ່ການໃຊ້ຄວາມສາມາດສູງ, ເຫມາະສົມກັບການປຸງແຕ່ງພື້ນຜິວທີ່ສູງ, ມີຄວາມແມ່ນຍໍາໃນການປຸງແຕ່ງ MICK.

ພາລາມິເຕີດ້ານວິຊາການ:

ຊັ້ນ		isstatic graphite 1940	Graphite isstatic 2610	Ellor + 18	Ellor + 50
ສະເລ່ຍຂະຫນາດເມັດ	μm	/	/	12	5
ຄວາມຫນາແຫນ້ນ	g / ຊມ³	1.79	1.74	1.78	1.86
ແຂງ	ຮິມຝັ່ງ	63	55	62	80
ການຜັດປະນົວກໍາລັງ	MPA	43	30	45	76
ໄຟຟ້າຕ້ານທານ	μOHM.CM	1397	1600	1370	1370

ທີ່ຜ່ານມາ :

ວິທີການບັນລຸການເຕີບໃຫຍ່ຂອງ Crystal ທີ່ມີຄຸນນະພາບສູງ? - ເຕົາທີ່ເຕີບໃຫຍ່ຂອງ Sic Crystal

ຕໍ່ໄປ :

ການເຄືອບ Sic ຊ່ວຍປັບປຸງຄວາມຕ້ານທານການຜຸພັງຂອງກາກບອນໄດ້ແນວໃດ?

ຂ່າວທີ່ກ່ຽວຂ້ອງ

ຄໍາແນະນໍາຂ່າວ

ບັນຫາໃນຂະບວນການ etching ເບິ່ງເພີ່ມເຕີມ >>

ຜູ້ສະຫນອງວັດສະດຸທີ່ດີທີ່ສຸດໃນໂລກ ເບິ່ງເພີ່ມເຕີມ >>

ຄໍາຮ້ອງສະຫມັກແລະການຄົ້ນຄວ້າກ່ຽວກັບເຄື່ອງປັ່ນປ່ວນຊິລິໂຄນ Carbide ໃນພາກສະຫນາມຂອງ photovoltics - vetek semiconductor ເບິ່ງເພີ່ມເຕີມ >>

Tantalum Carbide Corbide Tac ແມ່ນຫຍັງ? - veteksemicon ເບິ່ງເພີ່ມເຕີມ >>

ຂະບວນການ semiconductor: ການປ່ອຍອາຍພິດທາງເຄມີ (CVD)ເບິ່ງເພີ່ມເຕີມ >>

ຍິນດີຕ້ອນຮັບລູກຄ້າໃຫ້ໄປຢ້ຽມຢາມ Coating / ໂຮງງານຜະລິດ Coating ຂອງ Peteksemicon Sic ແລະ eritaxy ເບິ່ງເພີ່ມເຕີມ >>

ສົ່ງສອບຖາມ

ລະຫັດ QR

ກ່ຽວກັບພວກເຮົາ

ຜະລິດຕະພັນ

ຕິດຕໍ່ພວກເຮົາ

ໂທລະສັບ
+86-18069220752
ແຟັກ
+86-579-87223657
ອີເມລ
anny@veteksemi.com
ທີ່ຢູ່
ຖະຫນົນ Wangda, ຖະຫນົນ Ziyang, County Wuyi, ເມືອງ Jinhua, ແຂວງ Zhejiang, ປະເທດຈີນ

WhatsApp

Tina
QQ
TradeManager
Skype
E-Mail

VeTek
VKontakte
WeChat

We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy

Reject Accept

ເມນູເວັບ

ຄົ້ນຫາຜະລິດຕະພັນ

ພາສາ

ອອກຈາກເມນູ

ສີ່ຜູ້ຜະລິດ Graphite ທີ່ມີປະສິດທິພາບສູງທີ່ສຸດໃນໂລກ - Vetek

ພື້ນທີ່ graphite ແບບທໍາມະດາຂອງ SGL ແລະສະຫມັກ:

ພາລາມິເຕີດ້ານວິຊາການ:

TOYo graphite graphite ທໍາມະດາແລະພື້ນທີ່ຄໍາຮ້ອງສະຫມັກ:

ພາລາມິເຕີດ້ານວິຊາການ:

Tokai 'SMALFIFITE GRANCE ແລະພື້ນທີ່ສະຫມັກ:

ພາລາມິເຕີດ້ານວິຊາການ:

ຊັ້ນ