ຜະລິດຕະພັນ

ເຄື່ອງຈັກ vetek semiconductor ແມ່ນຜູ້ຜະລິດມືອາຊີບແລະຜູ້ນໍາຜະລິດຕະພັນ Tantalum Carbide ໃນປະເທດຈີນ. Carbide Porous ແມ່ນຜະລິດໂດຍການຜະລິດໂດຍໃຊ້ວິທີການເງິນເດືອນຂອງສານເຄມີ (CVD), ຮັບປະກັນການຄວບຄຸມແລະການແຈກຢາຍຂອງ Pore ຂອງມັນທີ່ອຸທິດໃຫ້ແກ່ສະພາບແວດລ້ອມທີ່ມີອຸນຫະພູມສູງ. ຍິນດີຕ້ອນຮັບການປຶກສາຫາລືຂອງທ່ານ.

ແຫວນສໍາຄັນຂອງ Vetek Semetogenductor ແມ່ນການນໍາໃຊ້ເຄືອບ tantalum carbide into pass graphite ໂດຍໃຊ້ເງິນຝາກທີ່ກ້າວຫນ້າທີ່ເອີ້ນວ່າການຝາກເງິນທາງເຄມີ (CVD). ວິທີການນີ້ແມ່ນສ້າງຕັ້ງໄດ້ດີແລະສະເຫນີຄຸນສົມບັດການເຄືອບພິເສດ. ໂດຍການນໍາໃຊ້ແຫວນຄໍາແນະນໍາກ່ຽວກັບການເຄືອບ TAC, ສ່ວນປະກອບຂອງ Graphite ສາມາດສະກັດກັ້ນໄດ້ຢ່າງຫຼວງຫຼາຍ, ແລະຄຸນນະພາບຂອງການໄປເຊຍກັນສາມາດເປັນການຮັກສາໄດ້ຢ່າງຫນ້າເຊື່ອຖື. ຍິນດີຕ້ອນຮັບການສອບຖາມພວກເຮົາ.

ໃນຖານະເປັນຜູ້ຜະລິດຂັ້ນສູງແລະຜູ້ຜະລິດຜະລິດຕະພັນແຫວນແຫວນ COTBide Carbide ໃນປະເທດຈີນ, ໂດຍສະເພາະໃນ CVD, PVD, ຂະບວນການຝັງເຂັມ, ຂະບວນການ ing, ຂະບວນການ ing, ແລະການປຸງແຕ່ງ wafer ແລະການຂົນສົ່ງ, ມັນແມ່ນຜະລິດຕະພັນທີ່ຂາດບໍ່ໄດ້ສໍາລັບການປຸງແຕ່ງ semiconductor ແລະການຜະລິດ. ຊອກຫາຕໍ່ກັບການປຶກສາຫາລືຂອງທ່ານຕໍ່ໄປ.

ໃນຖານະເປັນການເຄືອບຜະລິດຕະພັນແລະໂຮງງານຜະລິດຜະລິດຕະພັນທີ່ໃຊ້ໃນການຜະລິດເຄື່ອງຈັກໃນ semicondum carbide. ຍິນດີຕ້ອນຮັບການປຶກສາຫາລືຂອງທ່ານ.

ນັກວິທະຍາສາດ Vetek ແມ່ນຜູ້ຜະລິດມືອາຊີບແລະຜູ້ນໍາຜະລິດຕະພັນແຫວນແຫວນທີ່ໃຊ້ໃນການນໍາໃຊ້ Carbide Carbide ໃນປະເທດຈີນ. ແຫວນຄູ່ມືຂອງ Tantalum Corbide ຂອງພວກເຮົາແມ່ນສ່ວນປະກອບແຫວນທີ່ມີປະສິດຕິພາບສູງ, ເຊິ່ງຖືກນໍາໃຊ້ທົ່ວໄປໃນສະພາບແວດລ້ອມທີ່ມີອຸນຫະພູມສູງເຊັ່ນ: CVD, PVD, Etching ແລະ Diffusion. ເຄື່ອງປັບລະບົບ Vetek ມີຄວາມມຸ້ງຫມັ້ນທີ່ຈະໃຫ້ເຕັກໂນໂລຢີແລະວິທີແກ້ໄຂຜະລິດຕະພັນສໍາລັບອຸດສາຫະກໍາ semiconductor, ແລະຍິນດີທີ່ທ່ານຈະສອບຖາມຂໍ້ມູນເພີ່ມເຕີມ.

ໃນຖານະເປັນ Silicon Carbide ທີ່ເປັນມືອາຊີບປະທັບຕາປະທັບຕາແຫວນຜະລິດຕະພັນແຫວນຜະລິດຕະພັນ Silicon Silbide Carbe Silbide Carbe Silbide ມັນເຫມາະສົມໂດຍສະເພາະສໍາລັບຂະບວນການທີ່ກ່ຽວຂ້ອງກັບອຸປະກອນທີ່ມີອຸນຫະພູມສູງແລະປະຕິກິລິຍາເຊັ່ນ: CVD, PVD ແລະ Plasma Etching, ແລະແມ່ນທາງເລືອກວັດສະດຸທີ່ສໍາຄັນໃນຂະບວນການຜະລິດ semiconductor. ການສອບຖາມຂໍ້ມູນເພີ່ມເຕີມຂອງທ່ານຍິນດີຕ້ອນຮັບ.