CVD SiC coated Graphite Susceptor ສໍາລັບ Wafer Carrier

1. ຂໍ້ໄດ້ປຽບຂອງຜະລິດຕະພັນ

• ວັດສະດຸທີ່ມີຄວາມບໍລິສຸດສູງ:ວັດສະດຸ graphite ລະດັບ semiconductor ແລະໂຄງສ້າງການເຄືອບ SiC ຫນາແຫນ້ນຫຼຸດຜ່ອນຄວາມສ່ຽງຕໍ່ການປົນເປື້ອນແລະປັບປຸງຄວາມຫນ້າເຊື່ອຖືຂອງ CVD SiC coated graphite susceptor.
• ເອກະພາບຄວາມຮ້ອນທີ່ດີເລີດ:ໂຄງສ້າງ graphite ທີ່ດີທີ່ສຸດແລະການເຄືອບ SiC ສະຫນອງການຖ່າຍທອດຄວາມຮ້ອນທີ່ຫມັ້ນຄົງແລະການຄວບຄຸມອຸນຫະພູມ wafer ເປັນເອກະພາບ.
• ຄວາມຕ້ານທານທາງເຄມີຊັ້ນສູງ:ການເຄືອບ SiC ທີ່ຫນາແຫນ້ນສະຫນອງຄວາມຕ້ານທານທີ່ເຂັ້ມແຂງຕໍ່ກັບອາຍແກັສຂະບວນການແລະສະພາບແວດລ້ອມ corrosive.
• ຊີວິດການບໍລິການຍາວ:ຄວາມແຂງສູງແລະການຕໍ່ຕ້ານການສວມໃສ່ປັບປຸງຄວາມທົນທານພາຍໃຕ້ເງື່ອນໄຂ epitaxy ທີ່ມີອຸນຫະພູມສູງ.
• ການຜະລິດອະນຸພາກຕໍ່າ:ພື້ນຜິວ CVD SiC ທີ່ຫນາແຫນ້ນຊ່ວຍຫຼຸດຜ່ອນການປ່ອຍອະນຸພາກແລະປັບປຸງຄວາມຫນ້າເຊື່ອຖືຂອງຂະບວນການ wafer.
• ຄວາມສາມາດໃນການອອກແບບທີ່ກໍາຫນົດເອງ:ມີຢູ່ໃນຂະຫນາດທີ່ແຕກຕ່າງກັນ, ໂຄງສ້າງ, ແລະການຕັ້ງຄ່າຕາມຄວາມຕ້ອງການອຸປະກອນ.

2. ຂໍ້ກໍານົດດ້ານວິຊາການ

3. ຄໍາຮ້ອງສະຫມັກ

• ຂະບວນການ SiC Epitaxy:ຕົວອ່ອນ graphite ຖືກນໍາໃຊ້ເປັນຜູ້ໃຫ້ບໍລິການ wafer ໃນອຸປະກອນ SiC epitaxy, ສະຫນັບສະຫນູນ substrates SiC ໃນລະຫວ່າງການເຕີບໃຫຍ່ຂອງ epitaxy ທີ່ມີອຸນຫະພູມສູງ.
• ຂະບວນການ Epitaxy Silicon:ນໍາໃຊ້ໃນເຕົາປະຕິກອນຊິລິໂຄນ epitaxial ສໍາລັບສະຫນັບສະຫນູນ wafers ແລະຮັກສາສະພາບຄວາມຮ້ອນທີ່ຫມັ້ນຄົງ.
• MOCVD Epitaxy:VETEK graphite susceptors ເຫມາະສໍາລັບ MOCVD, LED epitaxy, GaN epitaxy, silicon epitaxy, ແລະຂະບວນການຜະລິດ semiconductor ອື່ນໆທີ່ຕ້ອງການຄວາມເປັນເອກະພາບຄວາມຮ້ອນທີ່ດີເລີດແລະຄວາມຫມັ້ນຄົງທາງເຄມີ..
• ອຸປະກອນການຜະລິດ semiconductor:ເຂົ້າກັນໄດ້ກັບແພລະຕະຟອມ epitaxy ຕ່າງໆ, ລວມທັງ furnaces ລວງນອນ LPE, Aixtron, NuFlare, ແລະອຸປະກອນ semiconductor ທີ່ກ່ຽວຂ້ອງ.

4. ເປັນຫຍັງຕ້ອງເລືອກ VETEK?

VETEK ສະໜອງການປັບແຕ່ງ CVD SiC coated graphite susceptor solutions ປະສົມປະສານການ purification graphite, ເຄື່ອງຈັກທີ່ມີຄວາມແມ່ນຍໍາ, ການເຄືອບ CVD, ແລະຄວາມສາມາດໃນການກວດກາ. ຜະລິດຕະພັນ graphite susceptor ລະດັບ semiconductor ຂອງພວກເຮົາມີຄວາມບໍລິສຸດສູງ, ຄວາມຫນາຂອງການເຄືອບເປັນແບບດຽວກັນ, ປະສິດທິພາບຄວາມຮ້ອນທີ່ດີເລີດ, ແລະອາຍຸການໃຊ້ງານຍາວສໍາລັບຄວາມຕ້ອງການຄໍາຮ້ອງສະຫມັກ carrier wafer.