ຜະລິດຕະພັນ

semicondortorctor vetek ສະຫນອງເຄື່ອງປັ້ນດິນເຜົາທີ່ໃຊ້ໃນການປຸງແຕ່ງແລະລິ້ງອື່ນໆ, ເຫມາະສົມກັບການຂັດ, ການຂັດແລະການເຊື່ອມໂຍງແລະລິ້ງອື່ນໆ. chuck ceraric porous ມີ adsorption ຂອງພວກເຮົາທີ່ເຂັ້ມແຂງ, ມີຄວາມຮຸນແຮງສູງແລະຄວາມບໍລິສຸດສູງຕອບສະຫນອງຄວາມຕ້ອງການຂອງອຸດສາຫະກໍາ semiconductor ທີ່ສຸດ.

The CVD SiC coated RTP susceptor ຈາກ VeTek Semiconductor ໃຫ້ບໍລິການການປະມວນຜົນຄວາມຮ້ອນຢ່າງໄວວາ (RTP) ແລະອຸປະກອນ annealing ຄວາມຮ້ອນຢ່າງໄວວາ (RTA) ນໍາໃຊ້ຕະຫຼອດການຜະລິດ semiconductor. ແຜ່ນຮອງແມ່ນເຄື່ອງຈັກຈາກກຼາຟ໌ isostatic ທີ່ມີຄວາມບໍລິສຸດສູງ, ເຊິ່ງຊັ້ນເທິງຂອງຊັ້ນ CVD silicon carbide (SiC) ມີຄວາມໜາແໜ້ນ. ການກໍ່ສ້າງນີ້ໃຫ້ຜົນການນໍາຄວາມຮ້ອນສູງ, inertness ສານເຄມີທີ່ເຂັ້ມແຂງ, ແລະຄວາມຫມັ້ນຄົງມິຕິມິຕິທີ່ຍືນຍົງພາຍໃຕ້ວົງຈອນອຸນຫະພູມສູງຊ້ໍາ.

ປະຈຸບັນເຄືອບ TAC ແມ່ນຖືກນໍາໃຊ້ໃນຂະບວນການເຊັ່ນ SiliCon Carbide Crystal (etitaxy carbide, ແຜ່ນ Corbide (ແລະອື່ນໆ. ພວກເຮົາຫວັງວ່າທ່ານຈະກາຍເປັນຄູ່ຮ່ວມງານໄລຍະຍາວຂອງພວກເຮົາ.

ໃນຖານະເປັນແກນທີ່ສາມາດບໍລິໂພກໃນຂະບວນການຜະລິດ semiconductor, graphite porous ມີບົດບາດທີ່ບໍ່ປ່ຽນແປງໄດ້ໃນການເຕີບໃຫຍ່ຂອງ Crystal ເຊັ່ນ: dople, ແລະ annealing. ໃນຖານະເປັນຜູ້ຜະລິດທີ່ເປັນມືອາຊີບຂອງ gresand Porous, ນັກວິທະຍາສາດ Vetek ມີຄວາມມຸ້ງຫມັ້ນທີ່ຈະສະຫນອງຜະລິດຕະພັນກາເຟທີ່ມີຄຸນນະພາບສູງໃນລາຄາທີ່ແຂ່ງຂັນ, ຍິນດີຕ້ອນຮັບການສອບຖາມຂອງທ່ານຕື່ມອີກ.

Gan on Sic epi sic epi ມີບົດບາດສໍາຄັນໃນການປຸງແຕ່ງຄວາມຮ້ອນແລະຄວາມຫມັ້ນຄົງໃນລະດັບສູງແລະຮັບປະກັນຄວາມຫມັ້ນຄົງສູງແລະມີຄຸນນະພາບດ້ານການເຕີບໂຕຂອງ Gan. Vetek semiconductor ແມ່ນຜູ້ຜະລິດມືອາຊີບຈີນຂອງ Gan ໃນ Sic epi seppeptor, ພວກເຮົາຫວັງວ່າທ່ານຈະໄດ້ປຶກສາຕໍ່ໄປ.

ຜູ້ໃຫ້ບໍລິການເຄືອບ CVD Tac ສ່ວນໃຫຍ່ແມ່ນຖືກອອກແບບມາເປັນສ່ວນໃຫຍ່ສໍາລັບຂະບວນການຂອງການຜະລິດ semiconductor. CVD Tac Meltrier Point's Melting Point, ຄວາມຕ້ານທານທີ່ດີເລີດ, ແລະຍັງຄ້າງຄາຄວາມຫມັ້ນຄົງກໍານົດຄວາມຜິດພາດຂອງຜະລິດຕະພັນນີ້ໃນຂະບວນການ abitaxial semiconductor. ຍິນດີຕ້ອນຮັບການສອບຖາມຕໍ່ໄປຂອງທ່ານ.