AD SHROCE PROCEPTOR

ໃນຖານະທີ່ຜູ້ຜະລິດມືອາຊີບ, Vetek semicondortuctor ຢາກແນະນໍາທ່ານວ່າການຝາກເງິນທີ່ມີຄວາມຊຸ່ມຊື່ນຂອງ SIC

ຂະບວນການ ALD ຍັງເປັນທີ່ຮູ້ຈັກກັນວ່າເປັນພາກສະລະປະລໍາມະນູຊັ້ນ. Veteksemicon ໄດ້ເຮັດວຽກຢ່າງໃກ້ຊິດກັບຜູ້ຜະລິດລະບົບ ALD ທີ່ນໍາຫນ້າເພື່ອບຸກເບີກການພັດທະນາແລະການຜະລິດ sulptorstary ທີ່ມີຄວາມສຸກທີ່ຫນ້າຮັກ. ຜູ້ທີ່ມີຄວາມຄິດເຫັນທີ່ມີຄວາມຄິດສ້າງສັນນີ້ຖືກອອກແບບຢ່າງລະມັດລະວັງໃນການຕອບສະຫນອງກັບຄວາມຕ້ອງການທີ່ເຂັ້ມງວດຂອງຂະບວນການ ALD ແລະຮັບປະກັນການແຈກຢາຍອາຍແກັສທີ່ມີຄວາມເປັນເອກະພາບໃນທົ່ວຊັ້ນໃຕ້ດິນ.

ນອກຈາກນັ້ນ, veteksemicon ຮັບປະກັນຄວາມບໍລິສຸດສູງໃນລະຫວ່າງວົງຈອນເງິນຝາກໂດຍການໃຊ້ເຄືອບ CVD Sicity ທີ່ມີຄວາມບໍລິສຸດສູງ (ຄວາມບໍລິສຸດບັນລຸ 99,99995%). ການເຄືອບ SIC ທີ່ມີຄວາມບໍລິສຸດນີ້ບໍ່ພຽງແຕ່ປັບປຸງຄວາມຫນ້າເຊື່ອຖືໃນຂະບວນການເທົ່ານັ້ນ, ແຕ່ຍັງໄດ້ປັບປຸງການປະຕິບັດໂດຍລວມແລະການເຮັດຊ້ໍາຂອງຂະບວນການ ALD ໃນແອັບພລິເຄຊັນທີ່ແຕກຕ່າງກັນ.

ອາໄສການອອກແບບທີ່ມີສິດທິບັດ CVD Silicon (ເຕັກໂນໂລຢີທີ່ມີສິດໄດ້ຮັບສິດທິບັດ) ແລະການອອກແບບຂະບວນການທີ່ມີສິດທິບັດ (ເຊັ່ນ:

ການບໍລິການທີ່ກໍາຫນົດເອງ: ສະຫນັບສະຫນູນລູກຄ້າເພື່ອລະບຸເອກະສານ graphite graphite ທີ່ນໍາເຂົ້າເຊັ່ນ: ກາກບອນແລະກາກບອນ sgl.

ການຢັ້ງຢືນຄຸນນະພາບ: ສິນຄ້າໄດ້ຜ່ານການທົດສອບແບບເຄິ່ງມາດຕະຖານ, ແລະອັດຕາຫຼົ່ນລົງຂອງອະນຸພາກແມ່ນ <0.01%, ຕອບສະຫນອງຄວາມຕ້ອງການຂອງຂະບວນການຂັ້ນຕອນທີ່ສູງກວ່າ 7NM.

ຂໍ້ໄດ້ປຽບຂອງພາບລວມຂອງເຕັກໂນໂລຢີ ALD:

●ການຄວບຄຸມຄວາມຫນາເບື້ອງຕົ້ນ: ບັນລຸຄວາມຫນາຂອງຮູບເງົາ nanometer ທີ່ມີທີ່ດີເລີດnt repartfility ໂດຍການຄວບຄຸມຮອບວຽນເງິນຝາກ.

● ທົນທານຕໍ່ອຸນຫະພູມສູງ: ມັນສາມາດເຮັດວຽກໄດ້ຢ່າງສະຫມໍ່າສະເຫມີເປັນເວລາດົນນານໃນສະພາບແວດລ້ອມທີ່ມີອຸນຫະພູມສູງກວ່າ 1200 ℃, ມີຄວາມຕ້ານທານຊອາການຮ້ອນທີ່ດີແລະບໍ່ມີຄວາມສ່ຽງຕໍ່ການແຕກຫຼືປອກເປືອກ. 

   ຕົວຄູນການຂະຫຍາຍຕົວຂອງຄວາມຮ້ອນຂອງການເຄືອບທີ່ມີການແຈກຢາຍສະຫນາມຄວາມຮ້ອນ, ໃຫ້ຮັບປະກັນຄວາມຜິດປົກກະຕິທີ່ບໍ່ມີຕົວຕົນ.

●ກ້ຽງພື້ນຜິວ: ຄວາມສອດຄ່ອງ 3D ທີ່ສົມບູນແບບແລະການຄຸ້ມຄອງຂັ້ນຕອນ 100% ຮັບປະກັນການເຄືອບທີ່ລຽບເຊິ່ງຕິດຕາມເສັ້ນໂຄ້ງຂອງຊັ້ນໃຕ້.

● ທົນທານຕໍ່ການກັດກ່ອນແລະການເຊາະເຈື່ອນ: ການເຄືອບ SIC ຢ່າງມີປະສິດທິຜົນຢ່າງມີປະສິດທິຜົນຂອງທາດອາຍຜິດ

●ໃຊ້ຈ່າຍກວ້າງ: ເປືອກຫຸ້ມໃນວັດຖຸຕ່າງໆຈາກ wafers ກັບແປ້ງ, ເຫມາະສົມກັບຊັ້ນຍ່ອຍທີ່ລະອຽດອ່ອນ.

●ຄຸນສົມບັດວັດສະດຸທີ່ສາມາດປັບແຕ່ງໄດ້: ການປັບແຕ່ງງ່າຍຂອງຄຸນສົມບັດວັດສະດຸສໍາລັບຜຸພັງ, ການປົກຫຸ້ມ, ທາດ nitrides, ໂລຫະ, ແລະອື່ນໆ.

●ປ່ອງຢ້ຽມຂະບວນການກ້ວາງ: ຄວາມບໍ່ແນ່ນອນໃນການປ່ຽນແປງອຸນຫະພູມຫຼືຕົວຢ່າງ, ມີຜົນດີຕໍ່ການຜະລິດດ້ວຍການຜະລິດດ້ວຍຄວາມເປັນເອກະພາບໃນການເຄືອບທີ່ດີເລີດ.

ສະຖານະການການສະຫມັກ:

1. ອຸປະກອນຜະລິດ semiconductor

Epitaxy: ໃນຖານະເປັນຜູ້ໃຫ້ບໍລິການຫຼັກຂອງປະຕິກິລິຍາທີ່ມີປະຕິກິລິຍາ, ມັນຮັບປະກັນຄວາມຮ້ອນທີ່ເປັນເອກະພາບຂອງ Wafer ແລະປັບປຸງຄຸນນະພາບຂອງຊັ້ນຂອງຊັ້ນ.

ຂະບວນການ Etching ແລະການຝາກເງິນ: ສ່ວນປະກອບໄຟຟ້າ: ສ່ວນປະກອບຂອງ electrode.

2. ອຸດສາຫະກໍາ Photovoltaica

Polysilicon Ingot Furnace: ໃນຖານະເປັນສ່ວນປະກອບສະຫນັບສະຫນູນພາກສະຫນາມຄວາມຮ້ອນ, ຫຼຸດຜ່ອນຄວາມບໍ່ສະອາດ, ປັບປຸງຄວາມບໍລິສຸດຂອງ Silicon Ingot, ແລະຊ່ວຍໃຫ້ການຜະລິດຈຸລັງແສງຕາເວັນມີປະສິດທິພາບ.

ໃນຖານະເປັນຜູ້ຜະລິດແລະຜູ້ສະຫນອງທີ່ມີຄວາມຮຸນແຮງແລະຜູ້ສະຫນອງພາສາຈີນທີ່ນໍາຫນ້ານໍາຂອງຈີນ. ການສອບຖາມຂໍ້ມູນເພີ່ມເຕີມຂອງທ່ານຍິນດີຕ້ອນຮັບ.

ຄຸນລັກສະນະທາງກາຍະພາບຂັ້ນພື້ນຖານຂອງ CVD SIC COating: