ALD FIED Qu Nextz Pedestal

ອາຫານຫຼັກຂອງ Vetek SemetOnGenductor Freed Quartz Pedestal ມີບົດບາດສໍາຄັນໃນຂະບວນການຜະລິດ semiconductor ເປັນໂຄງສ້າງສະຫນັບສະຫນູນເຮືອພັບເຊິ່ງຖືກນໍາໃຊ້ເພື່ອຖືWafer. Pedestz Quusedz Quusedz ຊ່ວຍໃຫ້ບັນລຸການລົງທືນຫນັງທີ່ເປັນເອກະພາບໂດຍການຮັກສາອຸນຫະພູມທີ່ຫມັ້ນຄົງ, ເຊິ່ງມີຜົນກະທົບໂດຍກົງແລະຄວາມຫນ້າເຊື່ອຖືຂອງອຸປະກອນ semiconductor. ນອກຈາກນັ້ນ, Pedestal Quartz ຮັບປະກັນການແຈກຢາຍຄວາມຮ້ອນແລະແສງສະຫວ່າງໃນຫ້ອງປະກອບທີ່ມີຄຸນນະພາບຂອງຂະບວນການຂອງຂະບວນການເງິນຝາກ.

ALD FREED FRANTZ Addz Admental Admental Admental Admental

ຄວາມຕ້ານທານອຸນຫະພູມສູງ: ຈຸດອ່ອນຂອງຕີນ quartz fused ສູງປະມານ 1730 ° C, ແລະມັນສາມາດທົນທານຕໍ່ການເຮັດວຽກຂອງອຸນຫະພູມສູງ 1100 ° C ຫາ 1250 ° C ເປັນເວລາດົນນານ, ແລະສາມາດສໍາຜັດກັບສະພາບແວດລ້ອມອຸນຫະພູມສູງສຸດເຖິງ 1450 ° C. ເປັນເວລາສັ້ນໆ.

ຄວາມຕ້ານທານການກັດທາງທີ່ດີເລີດ: Fused Quartz ແມ່ນທາດເຄມີທີ່ມີທາດເຄມີເກືອບທັງຫມົດກົດທີ່ມີອາຊິດທັງຫມົດຍົກເວັ້ນອາຊິດ hydrofluoric. ຄວາມຕ້ານທານຂອງອາຊິດຂອງມັນແມ່ນສູງກວ່າ ciramics ແລະສູງກວ່າ 150 ເທົ່າກ່ວາສະແຕນເລດ. FRUSED Quartz ແມ່ນບໍ່ມີສານເຄມີໃນອຸນຫະພູມສູງ, ເຮັດໃຫ້ມັນເປັນວັດສະດຸທີ່ເຫມາະສົມສໍາລັບຂະບວນການທາງເຄມີທີ່ສັບສົນ.

ສະຖຽນລະພາບຄວາມຮ້ອນ: ຄຸນລັກສະນະທີ່ສໍາຄັນຂອງວັດສະດຸ Pedestz Quartz ທີ່ຖືກໄຟແມ່ນມີຕົວຄູນຕ່ໍາທີ່ສຸດຂອງການຂະຫຍາຍຄວາມຮ້ອນ. ນີ້ຫມາຍຄວາມວ່າມັນສາມາດຈັດການກັບການເຫນັງຕີງຂອງອຸນຫະພູມທີ່ງ່າຍໂດຍບໍ່ມີການແຕກ. ຍົກຕົວຢ່າງ, FIused Silica Quartz ສາມາດເຮັດໃຫ້ຮ້ອນໄດ້ໄວເຖິງ 1100 ° C ແລະຈຸ່ມລົງໃນນ້ໍາເຢັນໂດຍບໍ່ມີຄວາມເສຍຫາຍ, ເປັນຄຸນລັກສະນະທີ່ສໍາຄັນໃນສະພາບການຜະລິດທີ່ມີຄວາມກົດດັນສູງ.

ຂະບວນການຜະລິດຢ່າງເຂັ້ມງວດ: ຂັ້ນຕອນການຜະລິດຂອງ pedestals silica fused ໄດ້ປະຕິບັດຢ່າງເຂັ້ມງວດໃນມາດຕະຖານທີ່ມີຄຸນນະພາບສູງ. ຂະບວນການຜະລິດໃຊ້ຂະບວນການຜະລິດແລະເຊື່ອມໂລຫະ, ເຊິ່ງມັກຈະສໍາເລັດໃນຫ້ອງຮຽນ 10,000 ສະພາບແວດລ້ອມທີ່ສະດວກສະບາຍ. ຫລັງຈາກນັ້ນ, pedestal ແກ້ວ quartz fronez ແມ່ນຖືກທໍາຄວາມສະອາດຢ່າງລະອຽດດ້ວຍນ້ໍາ ultracrely (18 mω) ເພື່ອຮັບປະກັນຄວາມບໍລິສຸດຂອງຜະລິດຕະພັນແລະການປະຕິບັດທີ່ດີທີ່ສຸດ. ແຕ່ລະຜະລິດຕະພັນສໍາເລັດຮູບແມ່ນໄດ້ຮັບການກວດກາຢ່າງເຂັ້ມງວດ, ເຮັດຄວາມສະອາດ, ແລະຫຸ້ມຫໍ່ຢູ່ໃນຫ້ອງຮຽນ 1,000 ຫຼືຫ້ອງລ້າງທີ່ສູງກວ່າຂອງອຸດສະຫະກໍາ semiconductor.

ອຸປະກອນການບໍລິສຸດຄວາມບໍລິສຸດສູງ

veteksemi ald freus freused medestal pedestal ໃຊ້ວັດສະດຸທີ່ມີຄວາມບໍລິສຸດສູງສຸດທີ່ສູງທີ່ສຸດເພື່ອແຍກຄວາມຮ້ອນແລະແສງສະຫວ່າງຢ່າງມີປະສິດຕິຜົນ. ຄຸນລັກສະນະຄວາມຮ້ອນທີ່ດີເລີດແລະເຄື່ອງປ້ອງກັນແສງສະຫວ່າງຂອງມັນເຮັດໃຫ້ມັນສາມາດຮັກສາການແຈກຢາຍອຸນຫະພູມທີ່ເປັນເອກະພາບໃນຫ້ອງປະກອບແລະຄວາມສອດຄ່ອງຂອງບາງໆການ​ຝາກ​ຮູບ​ເງົາ​ຢູ່ດ້ານ wafer.

ຊ່ອງຂໍ້ມູນຄໍາຮ້ອງສະຫມັກ

Fused quartz pedestals ໄດ້ຖືກນໍາໃຊ້ຢ່າງກວ້າງຂວາງໃນຫຼາຍຂົງເຂດຂອງອຸດສາຫະກໍາ semiconductor ເນື່ອງຈາກປະສິດທິພາບທີ່ດີເລີດຂອງເຂົາເຈົ້າ. ໃນຂັ້ນຕອນການຝາກປະລໍາມະນູ (ALD), ມັນສະຫນັບສະຫນູນການຄວບຄຸມການຂະຫຍາຍຕົວທີ່ຊັດເຈນແລະຮັບປະກັນຄວາມກ້າວຫນ້າຂອງອຸປະກອນ semiconductor. ໃນຂະບວນການລະບາຍເງິນຝາກຄວາມກົດດັນຕ່ໍາ (LPCVD) ຂະບວນການ, ຄວາມຫມັ້ນຄົງຄວາມຮ້ອນແລະຄວາມສາມາດໃນການປ້ອງກັນແສງສະຫວ່າງຂອງຕີນ Quartz ທີ່ມີຄວາມບໍລິສຸດສູງ

ນອກຈາກນັ້ນ, ໃນຂະບວນການ wafer ການແຜ່ກະຈາຍ, ຄວາມຕ້ານທານອຸນຫະພູມສູງແລະຄວາມຕ້ານທານດ້ານການກັດສານເຄມີຂອງຂະບວນການທີ່ຫນ້າເຊື່ອຖືຮັບປະກັນຄວາມຫນ້າເຊື່ອຖືແລະຄວາມສອດຄ່ອງຂອງຂະບວນການ. ຂະບວນການສໍາຄັນເຫຼົ່ານີ້ກໍານົດອຸປະກອນໄຟຟ້າຂອງອຸປະກອນ semiconductor, ແລະວັດສະດຸ Quus Space Quused ທີ່ມີຄຸນນະພາບສູງມີບົດບາດທີ່ດີທີ່ສຸດໃນການບັນລຸຜົນທີ່ດີທີ່ສຸດຂອງຂະບວນການເຫຼົ່ານີ້.

VeTek Semiconductor ALD Fused Quartz Pedestal ຮ້ານ: