sic coated barrel barrel susceptor

Vetek semiconductor ແມ່ນການເຄືອບ Sic ຂອງຈີນທີ່ນໍາຫນ້າໃນປະເທດຈີນ, ຜູ້ຜະລິດ, ຜູ້ສະຫນອງແລະຜູ້ສົ່ງເສີມ. ຍຶດຫມັ້ນກັບການສະແຫວງຫາຄຸນນະພາບຂອງຜະລິດຕະພັນທີ່ດີເລີດ, ດັ່ງນັ້ນ SIC Hoated Barrelor ທີ່ມີຄວາມສຸກຂອງພວກເຮົາໄດ້ຮັບຄວາມພໍໃຈຈາກລູກຄ້າຫຼາຍຄົນ. ການອອກແບບທີ່ສຸດ, ວັດຖຸດິບທີ່ມີຄຸນນະພາບ, ປະສິດທິພາບສູງແລະລາຄາທີ່ແຂ່ງຂັນແມ່ນສິ່ງທີ່ລູກຄ້າຕ້ອງການ, ແລະນັ້ນກໍ່ແມ່ນສິ່ງທີ່ພວກເຮົາສາມາດສະເຫນີໃຫ້ທ່ານ. ແນ່ນອນ, ຍັງມີຄວາມຈໍາເປັນແມ່ນການບໍລິການຫລັງການຂາຍທີ່ສົມບູນແບບຂອງພວກເຮົາ. ຖ້າຫາກວ່າທ່ານມີຄວາມສົນໃຈໃນການບໍລິການ SiC Coated Barrel Susceptor ຂອງພວກເຮົາ, ທ່ານສາມາດປຶກສາພວກເຮົາໃນປັດຈຸບັນ, ພວກເຮົາຈະຕອບກັບທ່ານໃນເວລາ!

VeTek SemiconductorSiC Coated Barrel Susceptor ສ່ວນໃຫຍ່ແມ່ນໃຊ້ສໍາລັບເຕົາປະຕິກອນ LPE Si EPI

LPE (Liquid Phase Epitaxy) ຊິລິໂຄນ epitaxy ແມ່ນເຕັກນິກການຈະເລີນເຕີບໂຕຂອງເຊມິຄອນດັກເຕີ້ epitaxy ທີ່ໃຊ້ທົ່ວໄປສໍາລັບການຝາກຊັ້ນບາງໆຂອງຊິລິຄອນກ້ອນດຽວຢູ່ເທິງຊັ້ນໃຕ້ດິນຂອງຊິລິຄອນ. ມັນເປັນວິທີການຂະຫຍາຍຕົວຂອງໄລຍະຂອງແຫຼວໂດຍອີງໃສ່ປະຕິກິລິຍາເຄມີໃນການແກ້ໄຂເພື່ອບັນລຸການເຕີບໂຕຂອງຜລຶກ.

ຫຼັກການພື້ນຖານຂອງ LPE silicon epitaxy ກ່ຽວຂ້ອງກັບການ immersing substrate ເຂົ້າໄປໃນການແກ້ໄຂທີ່ມີວັດສະດຸທີ່ຕ້ອງການ, ການຄວບຄຸມອຸນຫະພູມແລະອົງປະກອບຂອງການແກ້ໄຂ, ອະນຸຍາດໃຫ້ວັດສະດຸໃນການແກ້ໄຂການຂະຫຍາຍຕົວເປັນຊັ້ນຊິລິໂຄນໄປເຊຍກັນດຽວ. ຢູ່ເທິງພື້ນຜິວ. ໂດຍການປັບເງື່ອນໄຂການຂະຫຍາຍຕົວແລະອົງປະກອບການແກ້ໄຂໃນລະຫວ່າງການເຕີບໃຫຍ່ຂອງ epitaxial, ຄຸນນະພາບຂອງຜລຶກທີ່ຕ້ອງການ, ຄວາມຫນາ, ແລະຄວາມເຂັ້ມຂົ້ນຂອງ doping ສາມາດບັນລຸໄດ້.

Epitaxy LPE SilicX ສະເຫນີຄຸນລັກສະນະແລະຄຸນລັກສະນະຫຼາຍຢ່າງ. ກ່ອນອື່ນຫມົດ, ມັນສາມາດປະຕິບັດໄດ້ທີ່ອຸນຫະພູມຕ່ໍາຂ້ອນຂ້າງ, ການຫຼຸດຜ່ອນຄວາມຮ້ອນແລະຄວາມບໍ່ສະອາດໃນການແຜ່ກະຈາຍຄວາມຮ້ອນໃນເອກະສານ. ອັນທີສອງ, Epitaxy LPE Silicxy ໃຫ້ຄວາມເປັນເອກະພາບສູງແລະມີຄຸນນະພາບໄປເຊຍກັນທີ່ດີເລີດ, ເຫມາະສົມສໍາລັບການຜະລິດອຸປະກອນ semiconductor ທີ່ມີ semiconductor ທີ່ມີປະສິດຕິພາບສູງ. ນອກຈາກນັ້ນ, ເທັກໂນໂລຢີ LPE ຊ່ວຍໃຫ້ການເຕີບໃຫຍ່ຂອງໂຄງສ້າງທີ່ສັບສົນ, ເຊັ່ນວ່າພື້ນທີ່ multilayer ແລະ heterostructures.

ໃນ LPE silicon epitaxy, SiC Coated Barrel Susceptor ແມ່ນອົງປະກອບ epitaxial ທີ່ສໍາຄັນ. ໂດຍປົກກະຕິມັນຖືກນໍາໃຊ້ເພື່ອຖືແລະສະຫນັບສະຫນູນ substrates ຊິລິໂຄນທີ່ຈໍາເປັນສໍາລັບການຂະຫຍາຍຕົວ epitaxial ໃນຂະນະທີ່ສະຫນອງການຄວບຄຸມອຸນຫະພູມແລະບັນຍາກາດ. ການເຄືອບ SiC ເສີມຂະຫຍາຍຄວາມທົນທານຂອງອຸນຫະພູມສູງແລະຄວາມຫມັ້ນຄົງທາງເຄມີຂອງ susceptor, ຕອບສະຫນອງຄວາມຕ້ອງການຂອງຂະບວນການການຂະຫຍາຍຕົວ epitaxial. ໂດຍການນໍາໃຊ້ SiC Coated Barrel Susceptor, ປະສິດທິພາບແລະຄວາມສອດຄ່ອງຂອງການເຕີບໂຕຂອງ epitaxial ສາມາດປັບປຸງ, ຮັບປະກັນການເຕີບໂຕຂອງຊັ້ນ epitaxial ທີ່ມີຄຸນນະພາບສູງ.

ຄຸນລັກສະນະທາງກາຍະພາບຂັ້ນພື້ນຖານຂອງ CVD SIC CATING

CVD SIC FILM CRYSTAL ໂຄງສ້າງ

VeTek Semiconductorຮ້ານຂາຍເຄື່ອງຜະລິດລົດຈັກ SIC ເຄືອບ