porous sic ceramic chucks

chucks cerapic porous ສະເຫນີໂດຍ veteksemicon ແມ່ນຜະລິດຈາກ carbide coricon ທີ່ມີຄວາມບໍລິສຸດສູງ ມັນເຫມາະສໍາລັບລະບົບການຫນີບດູດ, ບ່ອນທີ່ບໍ່ມີການຕິດຕໍ່, Werfer-Free Handling ແມ່ນສໍາຄັນ.

ⅰ. ຄຸນສົມບັດວັດສະດຸທີ່ສໍາຄັນ & ຜົນປະໂຫຍດການປະຕິບັດ

1. ການປະຕິບັດຄວາມຮ້ອນແລະຄວາມຮ້ອນຂອງຄວາມຮ້ອນທີ່ດີເລີດ

Carbide Silicon ສະເຫນີການປະຕິບັດຄວາມຮ້ອນສູງ (120-200 W / M · K) ແລະສາມາດຕ້ານທານກັບອຸນຫະພູມປະຕິບັດການ, ການປຸງແຕ່ງຂອງ plasma, ແລະຂັ້ນຕອນການຝາກເງິນທີ່ມີອຸນຫະພູມສູງ.

ພາລະບົດບາດ: ຮັບປະກັນການລະລາຍຄວາມຮ້ອນທີ່ເປັນເອກະພາບ, ການຫຼຸດຜ່ອນ Warpage Wafer Warpage ແລະການປັບປຸງຄວາມເປັນເອກະພາບໃນຂະບວນການປັບປຸງ.

2. ຄວາມເຂັ້ມແຂງກົນຈັກທີ່ດີກວ່າ & ຄວາມຕ້ານທານ

microture ຫນາຂອງ sic ເຮັດໃຫ້ chuck ມີຄວາມແຂງກະດ້າງເປັນພິເສດ (> 2000 hv) ແລະຄວາມທົນທານດ້ານກົນຈັກ, ສິ່ງທີ່ຕ້ອງການສໍາລັບການໂຫຼດ / ຮອບວຽນຂອງການໂຫຼດແລະການຍົກຍ້າຍຂອງ Wafer.

ພາລະບົດບາດ: ຍືດຍາວອາຍຸຂອງ Chuck ໃນຂະນະທີ່ຮັກສາສະຖຽນລະພາບຂອງມິຕິແລະຄວາມແມ່ນຍໍາດ້ານ.

3. porosity ຄວບຄຸມສໍາລັບການແຈກຢາຍສູນຍາກາດທີ່ເປັນເອກະພາບ

ໂຄງປະກອບ porous ທີ່ລະອຽດຂອງເຄື່ອງປະດັບຂອງເຊລາມິກທີ່ເຮັດໃຫ້ດູດຊືມຢູ່ທົ່ວຫນ້າ wafer, ຮັບປະກັນການປົນເປື້ອນຂອງອະນາຄົດຫນ້ອຍທີ່ສຸດ.

ພາລະບົດບາດ: ເສີມຂະຫຍາຍຄວາມເຂົ້າກັນໄດ້ຂອງຫ້ອງຮັບຄວາມສະອາດແລະຮັບປະກັນການປຸງແຕ່ງ wafer ທີ່ບໍ່ເສຍຄ່າ.

4. ຄວາມຕ້ານທານສານເຄມີທີ່ດີເລີດ

ຄວາມບໍ່ມີຄວາມຄິດຂອງ SIG ກັບທາດອາຍຜິດແລະສະພາບແວດລ້ອມ plasma ປົກປ້ອງ Chuck ຈາກການເຊື່ອມໂຊມໃນລະຫວ່າງການເຮັດຄວາມສະອາດທາງເຄມີຫຼືການເຮັດດ້ວຍສານເຄມີ.

ພາລະບົດບາດ: ຫຼຸດຜ່ອນຄວາມຖີ່ຂອງການເຮັດຄວາມສະດວກສະບາຍແລະການເຮັດຄວາມສະອາດ, ຫຼຸດຜ່ອນຄ່າໃຊ້ຈ່າຍໃນການດໍາເນີນງານ.

ⅱ. ບໍລິການປັບແຕ່ງການປັບແຕ່ງແລະສະຫນັບສະຫນູນຂອງ veteksemicon

ຢູ່ veteksemicon, ພວກເຮົາສະຫນອງການບໍລິການທີ່ເຫມາະສົມກັບການຕອບສະຫນອງຄວາມຕ້ອງການທີ່ແນ່ນອນຂອງຜູ້ຜະລິດ semiconductor:

● CURUIDS GEOMETRY & DESION ຂະຫນາດ Pore: ພວກເຮົາສະເຫນີ chucks ໃນຂະຫນາດຕ່າງໆ, ຄວາມຫນາແລະຄວາມຫນາແຫນ້ນຂອງ pore ຖືກປັບແຕ່ງເປັນສະເພາະຂອງທ່ານແລະຄວາມຕ້ອງການສູນຍາກາດຂອງທ່ານ.

turntareping turnataround ໄວ: ເວລານໍາສັ້ນແລະການສະຫນັບສະຫນູນການຜະລິດທີ່ຕໍ່າສໍາລັບສາຍ R & D ແລະ LECTOW.

●ບໍລິການຫລັງການຂາຍທີ່ເຊື່ອຖືໄດ້: ຈາກການນໍາພາການຕິດຕັ້ງໃນການຕິດຕາມຊີວິດ, ພວກເຮົາຮັບປະກັນສະຖຽນລະພາບໃນໄລຍະຍາວແລະການສະຫນັບສະຫນູນດ້ານເຕັກນິກ.

ⅲ. ຄໍາຮ້ອງສະຫມັກ

●ອຸປະກອນປຸງແຕ່ງ Etching ແລະ Plasma

ing implantation ion ແລະຫ້ອງ annealing

●ວັດແທກກົນຈັກເຕັກນິກເຄມີ (CMP)

●ການວັດແທກແລະເວທີກວດກາ

●ການຖືສູນຍາກາດແລະຫນີບລະບົບໃນສະພາບແວດລ້ອມທີ່ສະຫຼາດ

ຮ້ານຂາຍຜະລິດຕະພັນເຊີັສ: