ຜະລິດຕະພັນ
ຜົງ SiC ຄວາມບໍລິສຸດສູງສໍາລັບການເຕີບໃຫຍ່ຂອງ SiC Crystal
  • ຜົງ SiC ຄວາມບໍລິສຸດສູງສໍາລັບການເຕີບໃຫຍ່ຂອງ SiC Crystalຜົງ SiC ຄວາມບໍລິສຸດສູງສໍາລັບການເຕີບໃຫຍ່ຂອງ SiC Crystal
  • ຜົງ SiC ຄວາມບໍລິສຸດສູງສໍາລັບການເຕີບໃຫຍ່ຂອງ SiC Crystalຜົງ SiC ຄວາມບໍລິສຸດສູງສໍາລັບການເຕີບໃຫຍ່ຂອງ SiC Crystal

ຜົງ SiC ຄວາມບໍລິສຸດສູງສໍາລັບການເຕີບໃຫຍ່ຂອງ SiC Crystal

VeTek Semiconductor ສະໜອງຝຸ່ນ Silicon Carbide (SiC) ລະດັບພຣີມຽມທີ່ມີຄວາມບໍລິສຸດສູງທີ່ປັບແຕ່ງສະເພາະສໍາລັບການເຕີບໂຕຂອງ SiC Crystal Growth (ຂະບວນການ PVT), ການຜະລິດ substrate semiconductor, ແລະເຊລາມິກທີ່ມີປະໂຫຍດຂັ້ນສູງ. ປຸງແຕ່ງໂດຍຜ່ານເທກໂນໂລຍີການຊໍາລະລ້າງທີ່ສະອາດທີ່ສຸດ, ວັດຖຸດິບ SiC ຄວາມບໍລິສຸດສູງຂອງພວກເຮົາໃຫ້ລະດັບໂລຫະຕາມຮອຍທີ່ຕໍ່າເປັນພິເສດ, ການປະຕິບັດການຍ່ອຍສະຫຼາຍທີ່ສາມາດແຜ່ພັນໄດ້, ແລະມີຄຸນນະພາບ batch-to-batch ທີ່ສອດຄ່ອງສູງເພື່ອຕອບສະຫນອງຄວາມຕ້ອງການການຜະລິດ semiconductor ທີ່ເຄັ່ງຄັດ.

1. ຄຸນນະສົມບັດທີ່ສໍາຄັນ

· ລະດັບຄວາມບໍລິສຸດສູງ:ຄວາມ​ສາ​ມາດ​ຄວາມ​ບໍ​ລິ​ສຸດ​ເຖິງ 99.9999​% (ເກຣດ 6N​)​.

· ຝຸ່ນໂລຫະຕ່ໍາສຸດ:ຫຼຸດຜ່ອນການປົນເປື້ອນໂລຫະຕາມຮອຍທີ່ຖືກປັບປຸງໃຫ້ເຫມາະສົມສໍາລັບການເຕີບໂຕຂອງໄປເຊຍກັນ SiC.

· ຄວາມໂປ່ງໃສເຕັມທີ່:ຂໍ້​ມູນ​ການ​ທົດ​ສອບ GDMS (Glow Discharge Mass Spectrometry​) ເຕັມ​ທີ່​ມີ​ໃຫ້​ສໍາ​ລັບ​ທຸກ batch​.

·ປະສິດທິພາບຄວາມຮ້ອນທີ່ຫມັ້ນຄົງ:ພຶດຕິກຳ sublimation ທີ່ຄາດເດົາໄດ້ສູງ ແລະ ເປັນເອກະພາບໃນລະຫວ່າງການຂະຫຍາຍຕົວຂອງ PVT.

· ການແຜ່ກະຈາຍຂະຫນາດອະນຸພາກຄວບຄຸມ:Granulometry ຕິດຕາມຢ່າງລະມັດລະວັງເພື່ອຮັກສາຄວາມຫນາແຫນ້ນຂອງບັນຈຸທີ່ສອດຄ່ອງ.

· ສູດ​ປັບ​ແຕ່ງ​:ຂະຫນາດອະນຸພາກທີ່ກໍາຫນົດເອງແລະເສັ້ນໂຄ້ງການແຜ່ກະຈາຍສາມາດໃຊ້ໄດ້ຕາມການຮ້ອງຂໍ.

· ມາດ​ຕະ​ຖານ​ຄຸນ​ນະ​ພາບ Semiconductor​:ຜະລິດຢ່າງເຂັ້ມງວດພາຍໃຕ້ລະບົບການຄຸ້ມຄອງຄຸນນະພາບລະດັບ semiconductor.

       


2. ຮູບພາບຜະລິດຕະພັນ


3. ຂໍ້ມູນສະເພາະທາງດ້ານວິຊາການ

ຊັບສິນ
ຄ່າປົກກະຕິ
ວັດສະດຸ
Silicon Carbide (SiC)
ຄວາມບໍລິສຸດ
99.99% – 99.9999%
ລະດັບຄວາມບໍລິສຸດ
4N – 6N+
ໂຄງປະກອບການໄປເຊຍກັນ
α-SiC
ຂະໜາດອະນຸພາກ
ປັບແຕ່ງໄດ້ (ເຊັ່ນ: micro to coarse mesh)
ການວິເຄາະຄວາມບໍ່ສະອາດ
ລາຍງານ GDMS ສະບັບເຕັມໃຫ້

4. ຄໍາຮ້ອງສະຫມັກ

· PVT SiC ການຂະຫຍາຍຕົວໄປເຊຍກັນ:ຜະສົມຜະສານ ແລະ ເຄິ່ງ insulating SiC.

· ຍ່ອຍສະຫຼາຍ semiconductor:Wafer substrate & ວັດຖຸດິບການປຸງແຕ່ງ epitaxial.

· ອົງປະກອບຄວາມຮ້ອນລະດັບສູງ:ອົງປະກອບເຊລາມິກແບບພິເສດແລະການເຄືອບ susceptor.

· ຄໍາຮ້ອງສະຫມັກ R&D:ການຄົ້ນຄວ້າເອເລັກໂຕຣນິກພະລັງງານການຜະລິດຕໍ່ໄປແລະອຸປະກອນຄວາມຖີ່ສູງ.


5. ເປັນຫຍັງຕ້ອງເລືອກ VeTek Semiconductor?

· ການ​ບໍ​ລິ​ສຸດ​ສິດ​ທິ​:ເຕັກນິກການຊໍາລະລ້າງແບບພິເສດທີ່ສະຫນອງຄວາມບໍລິສຸດເຖິງ 6N ສໍາລັບການຂະຫຍາຍຕົວຂອງກ້ອນດຽວ.

· ການ​ຄວບ​ຄຸມ​ຄຸນ​ນະ​ພາບ​ຢ່າງ​ເຂັ້ມ​ງວດ​:ການຮັບປະກັນຄຸນນະພາບທີ່ອຸທິດຕົນດ້ວຍການຄວບຄຸມການປົນເປື້ອນລະດັບ semiconductor ຢ່າງເຂັ້ມງວດ.

· ຄວາມຍືດຫຍຸ່ນການປັບແຕ່ງ:ການປັບຂະໜາດອະນຸພາກແບບກຳນົດເອງທີ່ປ່ຽນແປງໄດ້ເພື່ອໃຫ້ເໝາະສົມກັບຂໍ້ສະເພາະຂອງເຕົາເຜົາ PVT ທີ່ແຕກຕ່າງກັນ.

·ລະບົບຕ່ອງໂສ້ການສະຫນອງທີ່ຫມັ້ນຄົງ:ຄວາມສາມາດໃນການສະຫນອງທີ່ເຊື່ອຖືໄດ້ຮັບປະກັນການຈັດສົ່ງການຜະລິດມະຫາຊົນໃນໄລຍະຍາວທີ່ຫມັ້ນຄົງ.

· ຄວາມ​ຊ່ຽວ​ຊານ​ດ້ານ​ວິ​ຊາ​ການ​:ສໍາເລັດການສະຫນັບສະຫນູນດ້ານວິຊາການທີ່ເຫມາະສົມກັບຂະບວນການຂະຫຍາຍຕົວໄປເຊຍກັນສະເພາະຂອງທ່ານ.


Hot Tags: SiC Crystal Growth, High Purity SiC Powder, SiC Crystal Growth Powder, PVT SiC Crystal Growth, Semiconductor SiC Material, 6N High Purity SiC Powder, High Purity Silicon Carbide, VeTek Semiconductor
ສົ່ງສອບຖາມ
ຂໍ້​ມູນ​ຕິດ​ຕໍ່
  • ທີ່ຢູ່

    Wangda Road, Ziyang Street, Wuyi County, ເມືອງ Jinhua, ແຂວງ Zhejiang, ຈີນ

  • ອີເມວ

    anny@veteksemi.com

For inquiries about Silicon Carbide Coating, Tantalum Carbide Coating, Special Graphite or price list, please leave your email to us and we will be in touch within 24 hours.
X
ພວກເຮົາໃຊ້ cookies ເພື່ອສະເຫນີໃຫ້ທ່ານມີປະສົບການການຊອກຫາທີ່ດີກວ່າ, ວິເຄາະການເຂົ້າຊົມເວັບໄຊທ໌ແລະປັບແຕ່ງເນື້ອຫາ. ໂດຍການນໍາໃຊ້ເວັບໄຊທ໌ນີ້, ທ່ານຕົກລົງເຫັນດີກັບການນໍາໃຊ້ cookies ຂອງພວກເຮົາ. ນະໂຍບາຍຄວາມເປັນສ່ວນຕົວ
ປະຕິເສດຍອມຮັບ