ອາລູມິນຽມ Nitride (AlN) Ceramic Electrostatic Chuck

1.ຂໍ້ດີ

• ເຊລາມິກ AlN ທີ່ມີຄວາມບໍລິສຸດສູງທີ່ມີການນໍາຄວາມຮ້ອນເຖິງ ~ 180 W / m·K ສໍາລັບການໂອນຄວາມຮ້ອນທີ່ມີປະສິດທິພາບແລະຄວາມສອດຄ່ອງຂອງອຸນຫະພູມ.

• insulation ໄຟ​ຟ້າ​ທີ່​ເຂັ້ມ​ແຂງ​ແລະ​ຄວາມ​ຕ້ານ​ທານ​ປະ​ລິ​ມານ​ສູງ​ສະ​ຫນັບ​ສະ​ຫນູນ​ການ​ຍຶດ​ຫມັ້ນ​ຄົງ​ທີ່ 1-3 kV (ແຮງ​ດັນ​ສູງ​ກວ່າ​ທີ່​ມີ​ຢູ່​)

• ວັດສະດຸຊັ້ນ dielectric ແບບກຳນົດເອງ ແລະການຈັດວາງ electrode: Coulomb ຫຼື Johnsen-Rahbek (JR); ເຂດດຽວ ຫຼືຫຼາຍເຂດ

• ການປະຕິບັດການຍຶດຕິດໄວ ແລະ de-clamp, ໂດຍປົກກະຕິພາຍໃຕ້ 0.1 ວິນາທີ

• ໂຄງສ້າງຈຸລະພາກທີ່ມີ dimple ລົງເຖິງ ~ 300 μm ເສັ້ນຜ່າສູນກາງ, ຫຼຸດຜ່ອນພື້ນທີ່ຕິດຕໍ່ຕ່ໍາເປັນ ~ 1%

• ຄວາມສາມາດ flatness ສູງ; ຄວາມຮາບພຽງທົ່ວໄປຂອງໂລກຕາມລໍາດັບ 0.5-3 μm PV ສໍາລັບເວທີຊັ້ນ 300 ມມ.

• ໂຄງສ້າງຈຸລະພາກທີ່ມີຄວາມຫນາແຫນ້ນທີ່ມີການດູດຊຶມນ້ໍາໃກ້ສູນແລະການຕໍ່ຕ້ານສານເຄມີທີ່ດີສໍາລັບສະພາບແວດລ້ອມຂະບວນການ

2.ຄໍາຮ້ອງສະຫມັກທົ່ວໄປ

Aluminum Nitride Ceramic Chucks Electrostatic ແມ່ນໃຊ້ໃນຂັ້ນຕອນຂະບວນການທີ່ຕ້ອງການທັງການຖື wafer ທີ່ປອດໄພແລະພຶດຕິກໍາຄວາມຮ້ອນທີ່ຄວບຄຸມ:

• Dry plasma etch (ICP / RIE) ແລະຂະບວນການສະພາທີ່ກ່ຽວຂ້ອງ

• CVD, PEALD, ຄວາມຮ້ອນ ALD, ແລະຂັ້ນຕອນການຝາກຮູບບາງໆອື່ນໆ

• ໂມດູນຂະບວນການ Annealing ແລະຄວາມຮ້ອນຮຽກຮ້ອງໃຫ້ມີອຸນຫະພູມ wafer ເປັນເອກະພາບ

• ຂັ້ນຕອນການກວດກາ, ວັດແທກຄວາມແມ່ນຍໍາ, ແລະຄວາມແມ່ນຍໍາທີ່ອະນຸພາກຕ່ໍາແລະຄວາມຫມັ້ນຄົງແມ່ນສໍາຄັນ

3.ເກຣດວັດສະດຸ AlN – ຄຸນສົມບັດທົ່ວໄປ

VeTek ສະຫນອງອາລູມິນຽມ Nitride ຫຼາຍເກຣດເພື່ອດຸ່ນດ່ຽງການນໍາຄວາມຮ້ອນ, ຄວາມເຂັ້ມແຂງກົນຈັກ, ແລະຄ່າໃຊ້ຈ່າຍສໍາລັບການອອກແບບ ESC:

ຫົວໜ່ວຍ: ການນໍາຄວາມຮ້ອນໃນ W/(m·K); ແຮງ dielectric ໃນ kV / mm; ຄວາມຕ້ານທານຂອງປະລິມານໃນΩ·cm (25 ° C); ຄົງທີ່ dielectric ຢູ່ 1 MHz. ຄ່າແມ່ນປົກກະຕິ ແລະອາດຈະແຕກຕ່າງກັນໄປຕາມຂະບວນການ ແລະເລຂາຄະນິດບາງສ່ວນ.

4.ຕົວກໍານົດການອອກແບບ ESC ປົກກະຕິ

5.ເປັນຫຍັງ Choose VeTek AlN Electrostatic Chucks?

VeTek Semiconductor ປະສົມປະສານເຊລາມິກ AlN ຂັ້ນສູງດ້ວຍການຜະລິດ ESC ທີ່ຊັດເຈນສໍາລັບລູກຄ້າ semiconductor ທີ່ຕ້ອງການທັງປະສິດທິພາບຄວາມຮ້ອນແລະການຍຶດຫມັ້ນທີ່ເຊື່ອຖືໄດ້:

• ເກຣດ AlN ຫຼາຍປະເພດທີ່ມີການນໍາຄວາມຮ້ອນຈາກ ~90 ຫາ ~180 W/m·K ເພື່ອໃຫ້ກົງກັບງົບປະມານຄວາມຮ້ອນຂອງຂະບວນການ.

• ການອອກແບບ electrode ແລະ dielectric ທີ່ມີຄວາມຍືດຫຍຸ່ນສໍາລັບພຶດຕິກໍາການຍຶດຂອງ Coulomb ຫຼື JR

• ການຄວບຄຸມຄວາມຮາບພຽງ, ໂຄງສ້າງຈຸລະພາກຂອງພື້ນຜິວ, ແລະການປະຕິບັດການສນວນໄຟຟ້າ

• ສະຫນັບສະຫນູນວົງຈອນຊີວິດຢ່າງເຕັມທີ່: ການອອກແບບ, ການກໍ່ສ້າງໃຫມ່, ແລະການປັບປຸງໃຫມ່ຫຼາຍລະດັບ

ສໍາລັບ etch, deposition, ແລະເຄື່ອງມືຄວາມຮ້ອນທີ່ຂຶ້ນກັບອຸນຫະພູມ wafer ເປັນເອກະພາບແລະສະອາດ, clamping repeatable, VeTek Aluminum Nitride Ceramic Electrostatic Chucks ສະຫນອງເວທີ ceramic ປະສິດທິພາບສູງສະຫນັບສະຫນູນໂດຍສະຫນັບສະຫນູນວິສະວະກໍາທີ່ສຸມໃສ່ຄໍາຮ້ອງສະຫມັກ.