ແຜ່ນແຈກຢາຍອາຍແກັສ Quartz

ແຜ່ນຈໍານວນເງິນທີ່ມີການແຜ່ກະຈາຍກ gas າຊ, ເປັນທີ່ຮູ້ຈັກກັນໃນຂະນະທີ່ Shower Showerheads, ແມ່ນສ່ວນປະກອບທີ່ສໍາຄັນໃນການຜະລິດຮູບແບບ semiconductor. leveraging ຄວາມບໍລິສຸດພິເສດ, ຄວາມຕ້ານທານອຸນຫະພູມສູງ, ແລະຄວາມຕ້ານທານດ້ານການກັດຂອງ quartz, ແຜ່ນເຫຼົ່ານີ້ຮັບປະກັນວ່າມີທາດອາຍທີ່ເປັນເອກະພາບແລະຄວາມຫມັ້ນຄົງຂອງຂະບວນການ. ການຈັດສົ່ງທີ່ຊັດເຈນນີ້ແມ່ນສິ່ງທີ່ຈໍາເປັນສໍາລັບການຮັກສາຄຸນນະພາບແລະຄວາມເປັນເອກະພາບຂອງຮູບເງົາທີ່ຝາກຫຼືລັກສະນະທີ່ໄດ້ຮັບ.

ຄຸນລັກສະນະທີ່ສໍາຄັນຂອງຄວາມບໍລິສຸດ - ຄວາມບໍ່ມີຄວາມຊໍານິຊໍານານ

●ວັດສະດຸ: 99,99% ຄວາມບໍລິສຸດ - ຄວາມບໍ່ມີຄວາມບໍລິສຸດ - quartz

●ຄວາມຕ້ານທານອຸນຫະພູມສູງ: ຄວາມເປັນລະດັບອຸນຫະພູມສູງກວ່າ 1000 ℃

●ຄວາມຕ້ານທານການກັດກ່ອນ: ຄວາມທົນທານທີ່ດີເລີດຕໍ່ກັບສະພາບແວດລ້ອມຂະບວນການແລະ plasma

●ກະແສອາຍແກັສທີ່ມີຄວາມແມ່ນຍໍາ: ການແຜ່ກະຈາຍຂຸມຈຸນລະພາກທີ່ເປັນເອກະພາບສໍາລັບການຈັດສົ່ງແກ gas ສທີ່ດີທີ່ສຸດແລະຄວາມເປັນເອກະພາບ

●ການອອກແບບທີ່ສາມາດປັບແຕ່ງໄດ້: ຂະຫນາດ, ຮູບແບບຂຸມ, ແລະລັກສະນະການຕິດຕັ້ງສາມາດປັບແຕ່ງໄດ້ສໍາລັບຮູບແບບອຸປະກອນສະເພາະ

ພາລະບົດບາດຫຼັກໃນການຜະລິດ semiconductor

1. ການຝາກເງິນທາງດ້ານຮ່າງກາຍ (PVD) & ເງິນຝາກ Vapor ເຄມີ (CVD)

ພາລະບົດບາດ: ໃນຂະບວນການ PVD ແລະ CVD, ແຜ່ນທີ່ມີການແຈກຢາຍອາຍແກັສໂດຍກົງ (E.g.

ການນໍາໃຊ້ສະເພາະ:

●ການຄວບຄຸມຄວາມເປັນເອກະພາບ: ຂຸມຂະຫນາດນ້ອຍທີ່ຖືກບັນຫາຂອງແຜ່ນຮັບປະກັນວ່າກະແສອາຍແກັສແລະຄວາມເຂັ້ມຂົ້ນຂອງອາຍແກັສແມ່ນເປັນເອກະພາບໃນທົ່ວຫນ້າ. ນີ້ແມ່ນສິ່ງທີ່ສໍາຄັນທີ່ຈະຝາກຮູບເງົາດ້ວຍຄວາມຫນາແລະການປະຕິບັດທີ່ສອດຄ່ອງ.

ການປ້ອງກັນການປົນເປື້ອນ: ຄວາມບໍລິສຸດສູງຂອງ quartz ປ້ອງກັນບໍ່ໃຫ້ແຜ່ນທີ່ມີປະຕິກິລິຍາກັບທາດອາຍຜິດຫຼືການປ່ອຍຄວາມບໍ່ສະອາດ. ສິ່ງດັ່ງກ່າວຮັກສາຄວາມບໍລິສຸດຂອງຮູບເງົາແລະປ້ອງກັນຄວາມບົກຜ່ອງດ້ານເທິງຂອງເຊື້ອເຊີນ.

2. ເງິນຝາກ vapor ສານເຄມີທີ່ໃຊ້ໃນ plasma (Pecvd)

ພາລະບົດບາດ: ໃນ pecvd, showerhead quartz ບໍ່ພຽງແຕ່ສະຫນອງອາຍແກັສທີ່ມີປະຕິກິລິຍາເທົ່ານັ້ນແຕ່ຍັງເຮັດຫນ້າທີ່ເປັນ electrode ສໍາລັບລຸ້ນ plasma.

ການນໍາໃຊ້ສະເພາະ:

● plasma ignition: Showerhead ແມ່ນໂດຍປົກກະຕິຕິດພັນກັບແຫຼ່ງພະລັງງານວິທະຍຸ (RF) ເພື່ອສ້າງ plasma. ອະນຸພາກພະລັງງານສູງພາຍໃນ plasma ໄດ້ສົ່ງເສີມການເນົ່າເປື່ອຍຂອງເຕົາຜ່ອຍ, ເຮັດໃຫ້ການຝາກເງິນຢູ່ໃນອຸນຫະພູມຕ່ໍາ.

ig ຄວາມຫມັ້ນຄົງຄວາມຮ້ອນ: Quartz Express STability ທີ່ມີຄວາມຮ້ອນທີ່ດີເລີດ, ຊ່ວຍໃຫ້ມັນຕ້ານທານກັບສະພາບແວດລ້ອມຂອງ plasma ທີ່ມີອຸນຫະພູມສູງ. ສິ່ງນີ້ຊ່ວຍຮັກສາອຸນຫະພູມທີ່ເປັນເອກະພາບພາຍໃນສະພາຂະບວນການ, ຮັບປະກັນຄຸນນະພາບແລະຄວາມສອດຄ່ອງເພີ່ມເຕີມຕໍ່ໄປ.

3. ການດູດນ້ໍາແຫ້ງ

ພາລະບົດບາດ: ໃນອາການແຫ້ງແລ້ງ, ແຜ່ນທີ່ແຈກຢາຍກ gas າຊທີ່ແນະນໍາອາຍແກັສ (E.g. , Fluorocarbons, chlorine) ເຂົ້າໄປໃນຫ້ອງ etch.

ການນໍາໃຊ້ສະເພາະ:

●ຄວາມເປັນເອກະພາບຂອງ ettet: ແຜ່ນທີ່ຮັບປະກັນເຄື່ອງແບບທີ່ເປັນເອກະພາບແລະຄວາມເຂັ້ມຂົ້ນຂອງທາດອາຍຜິດ, ເຊິ່ງຮັບປະກັນຄວາມເລິກແລະຂໍ້ມູນທີ່ສອດຄ່ອງກັນໃນທົ່ວ wafer ທັງຫມົດ. ນີ້ແມ່ນສິ່ງທີ່ສໍາຄັນສໍາລັບການບັນລຸຮູບແບບທີ່ຊັດເຈນທີ່ຕ້ອງການສໍາລັບອຸປະກອນ semiconductor ທີ່ກ້າວຫນ້າ.

●ຄວາມຕ້ານທານດ້ານການກັດກ່ອນ: ຄຸນລັກສະນະທີ່ມີໃບປະຕິບັດທີ່ເຂັ້ມແຂງຂອງທາດອາຍຜິດ ettimes ຈໍາເປັນອຸປະກອນທີ່ທົນທານ. ຄວາມຕ້ານທານການກັດກ່ອນຂອງ Quartz ໄດ້ຂະຫຍາຍອາຍຸການອາບນໍ້າແລະຫຼຸດຜ່ອນຄວາມສ່ຽງຕໍ່ການຂັດຂວາງການດໍາເນີນການ.

4. ການເຮັດຄວາມສະອາດ Wafer

ພາລະບົດບາດ: ໃນຂະບວນການເຮັດຄວາມສະອາດ Wafer ສະເພາະ, ການແຈກຢາຍອາຍແກັສ Quartz ແມ່ນໃຊ້ເພື່ອທໍາຄວາມສະອາດ gases (oog. , oozia, ammonia) ummonia

ການນໍາໃຊ້ສະເພາະ:

●ຄວາມສະອາດສອດຄ່ອງ: ແຜ່ນຮັບປະກັນວ່າທາດອາຍຜິດບັນຍາກາດເຂົ້າເຖິງທຸກໆສ່ວນຂອງ Wafer, ເຮັດໃຫ້ມີການເຮັດຄວາມສະອາດຢ່າງລະອຽດແລະເປັນເອກະພາບກັນ.

●ຄວາມເຂົ້າກັນໄດ້ຂອງເຄມີ: ຄວາມເຂົ້າກັນໄດ້ຂອງ Quartz ທີ່ມີຄວາມຫລາກຫລາຍຂອງສານເຄມີທີ່ເຮັດຄວາມສະອາດປ້ອງກັນຕິກິລິຍາແລະຮັກສາຄວາມບໍລິສຸດແລະປະສິດທິຜົນຂອງຂັ້ນຕອນການເຮັດຄວາມສະອາດ.