ທໍ່ furnace Quartz ສໍາລັບ furnace ການແຜ່ກະຈາຍ

1. ຄຸນນະສົມບັດທີ່ສໍາຄັນ & ຂໍ້ໄດ້ປຽບ

• ຄວາມບໍລິສຸດສູງ dehydroxylated fused quartz (SiO₂ ≥ 99.999%) ທີ່ມີຄວາມບໍລິສຸດຂອງໂລຫະຄວບຄຸມໃນລະດັບ ppb ແລະປະລິມານ hydroxyl ຕ່ໍາທີ່ສຸດ

•ອຸນຫະພູມການເຮັດວຽກໃນໄລຍະຍາວສູງເຖິງ 1100 ° C; ຄວາມຕ້ານທານສູງສຸດໃນໄລຍະສັ້ນເຖິງ 1200 ° C

• ຄວາມຕ້ານທານຄວາມຮ້ອນດີເລີດຫຼັງຈາກການເນລະມິດການບັນເທົາຄວາມກົດດັນເຕັມທີ່ — ທົນທານຕໍ່ການແຕກພາຍໃຕ້ການປ່ຽນແປງຂອງອຸນຫະພູມຢ່າງໄວວາ

• ຄວາມເຂັ້ມຂົ້ນຂອງສານເຄມີທີ່ໂດດເດັ່ນຕໍ່ກັບການຜຸພັງ, ການຫຼຸດຜ່ອນ, ແລະທາດອາຍແກັສຂະບວນການບັນຈຸ halogen; ເຫມາະສໍາລັບ plasma ແລະບັນຍາກາດ corrosive

• ການລະບາຍອາກາດສູນຍາກາດຕໍ່າຫຼາຍ; ຜະຫນັງພາຍໃນລຽບຊ່ວຍຫຼຸດຜ່ອນການສ້າງຜົນກໍາໄລແລະສະຫນັບສະຫນູນຂະບວນການຊ້ໍາກັນ

• ກອບເປັນຈໍານວນຫນຶ່ງຊິ້ນທີ່ມີຄວາມຫນາແຫນ້ນຂອງກໍາແພງທີ່ເປັນເອກະພາບ, ມີຄວາມສອດຄ່ອງສູງ, ແລະຄວາມແມ່ນຍໍາສໍາເລັດຮູບສໍາລັບການປະທັບຕາທີ່ເຊື່ອຖືໄດ້

•ໂຄງສ້າງທີ່ສາມາດປັບແຕ່ງໄດ້: ທໍ່ຊື່, ທໍ່ຫຼຸດຜ່ອນ, ທໍ່ flanged, ຄວາມຍາວຂະຫຍາຍ, ແລະການຕັ້ງຄ່າພິເສດສໍາລັບ furnace ຕັ້ງຫຼືແນວນອນ.

2. ຄໍາຮ້ອງສະຫມັກທົ່ວໄປ

ທໍ່ furnace quartz VeTek ຖືກນໍາໃຊ້ຢ່າງກວ້າງຂວາງເປັນຫ້ອງຕິກິຣິຍາຫຼັກໃນ:

• furnaces ການຜຸພັງຄວາມຮ້ອນ (ການຜຸພັງແຫ້ງ / ປຽກ)

• furnaces ການແຜ່ກະຈາຍສໍາລັບການແນະນໍາ dopant (B, P, As, ແລະອື່ນໆ)

• ລະບົບ LPCVD ສໍາລັບການຊຶມເຊື້ອຟິມບາງໆ

• ການເຊື່ອມສູນຍາກາດ ແລະ ຂະບວນການບຳບັດດ້ວຍຄວາມຮ້ອນທີ່ມີອຸນຫະພູມສູງ

•ເຂົ້າກັນໄດ້ກັບເວທີ wafer 4 ນິ້ວ, 6 ນິ້ວ, 8 ນິ້ວ, ແລະ 12 ນິ້ວ (Si, SiC, GaN, substrates sapphire)

ພວກມັນສະຫນັບສະຫນູນຕາມເຫດຜົນ, ຫນ່ວຍຄວາມຈໍາ, ອຸປະກອນພະລັງງານ, MCU, LED, MEMS, ແລະສາຍການຜະລິດ semiconductor ກວ້າງທີ່ຕ້ອງການຄວາມສອດຄ່ອງຂອງອຸນຫະພູມທີ່ຫມັ້ນຄົງ, ການຄວບຄຸມການໄຫຼຂອງອາຍແກັສ, ແລະສະພາບແວດລ້ອມຂະບວນການທີ່ສະອາດທີ່ສຸດ.

3. ຕົວກໍານົດການດ້ານວິຊາການທີ່ສໍາຄັນ

• ວັດສະດຸ: Semiconductor-grade dehydroxylated fused quartz (SiO₂ ≥ 99.999%), hydroxyl ຕ່ຳ, ມົນລະພິດໂລຫະຕ່ຳ

•ຄວາມເຂົ້າກັນໄດ້ຂອງ Wafer: 4 / 6 / 8 / 12 ນິ້ວ

•ອຸນຫະພູມການເຮັດວຽກໃນໄລຍະຍາວ: −20 °C ຫາ 1100 °C; ສູງສຸດໃນໄລຍະສັ້ນສູງເຖິງ 1200 ° C

• ຂະບວນການ: ການສ້າງຄວາມຮ້ອນແບບຊິ້ນດຽວ, ການເຮັດໃຫ້ເປັນຕົວດຽວກັນຂອງຝາ, ການສໍາເລັດຮູບ, ການລະບາຍຄວາມກົດດັນ, ການຮົ່ວໄຫຼຂອງ helium, ການທໍາຄວາມສະອາດທີ່ສະອາດທີ່ສຸດ

•ໂຄງສ້າງທີ່ມີຢູ່: ທໍ່ຊື່, ທໍ່ຫຼຸດຜ່ອນ, ທໍ່ flanged, ທໍ່ຂະຫຍາຍ / ຄວາມຍາວ custom, ການຕັ້ງຄ່າພິເສດ.

• ການປັບແຕ່ງ: ເສັ້ນຜ່າສູນກາງພາຍໃນ/ນອກ, ຄວາມຍາວ, ຄວາມຫນາຂອງຝາ, ລັກສະນະແປນ, ແລະເລຂາຄະນິດພິເສດຕໍ່ຮູບແຕ້ມຂອງລູກຄ້າ.

4. ເປັນຫຍັງຕ້ອງເລືອກທໍ່ເຕົາເຜົາ VeTek Quartz?

ໃນຖານະເປັນຜູ້ຜະລິດມືອາຊີບຂອງອົງປະກອບ quartz semiconductor, VeTek Semiconductor ສະເຫນີ:

• ທໍ່ furnace quartz ຄວາມບໍລິສຸດສູງທີ່ອອກແບບມາສໍາລັບການຜຸພັງ, ການແຜ່ກະຈາຍ, LPCVD, ແລະອຸປະກອນ annealing

•ການຄວບຄຸມຄວາມບໍລິສຸດຢ່າງເຂັ້ມງວດ, ຄວາມຖືກຕ້ອງຂອງມິຕິລະດັບ, ແລະຄວາມສະອາດທີ່ເຫມາະສົມສໍາລັບການຜະລິດຫ້ອງສະອາດຫ້ອງຮຽນ 10 / 100

•ການປັບແຕ່ງເຕັມຮູບແບບແລະການອອກແບບທີ່ເຫມາະສົມກັບ OEM ສໍາລັບ furnaces ທໍ່ຕັ້ງແລະແນວນອນ

• ຜະ ລິດ ຕະ ພັນ quartz semiconductor ລວມ ທັງ ເຮືອ wafer, crucibles, liners, ແລະ ອົງ ປະ ກອບ ຂະ ບວນ ການ ອື່ນໆ.

ທໍ່ furnace quartz ຂອງພວກເຮົາຊ່ວຍຮັກສາສະພາບຄວາມຮ້ອນແລະອາຍແກັສທີ່ຫມັ້ນຄົງ, ຫຼຸດຜ່ອນການປົນເປື້ອນຂອງອະນຸພາກແລະການປົນເປື້ອນຂອງໂລຫະ, ແລະຍືດອາຍຸການບໍລິການພາຍໃຕ້ວົງຈອນອຸນຫະພູມສູງຢ່າງຕໍ່ເນື່ອງ - ສະຫນັບສະຫນູນຜົນຜະລິດທີ່ສູງຂຶ້ນແລະຄ່າໃຊ້ຈ່າຍຕ່ໍາຂອງການເປັນເຈົ້າຂອງໃນການປຸງແຕ່ງຄວາມຮ້ອນ semiconductor.