pantalum tantalum carbide

ວິທະຍາສາດຂອງ Vetek Carbide (Tac) ແມ່ນອຸປະກອນການເຮັດດ້ວຍພູມສັນຖານທີ່ມີປະສິດທິພາບສູງທີ່ປະສົມປະສານຄຸນສົມບັດຂອງ tantalum ແລະກາກບອນ. ໂຄງປະກອບ porous ຂອງມັນເຫມາະສົມກັບການນໍາໃຊ້ສະເພາະໃນອຸນຫະພູມສູງແລະສຸດສະພາບແວດລ້ອມທີ່ສຸດ. TAC ປະສົມປະສານຄວາມແຂງທີ່ດີເລີດ, ຄວາມຫມັ້ນຄົງຄວາມຮ້ອນແລະຄວາມຕ້ານທານທາງເຄມີ, ເຮັດໃຫ້ມັນເປັນທາງເລືອກວັດຖຸທີ່ເຫມາະສົມໃນການປຸງແຕ່ງ semiconductor.

tantalum carbide corbide (tac) ປະກອບດ້ວຍ tantalum (ta) ແລະກາກບອນ (c), ໃນທີ່ tantalum ປະກອບເປັນປະກອບດ້ວຍປະລໍາມະນູທາງເຄມີ, ໃຫ້ຄວາມທົນທານສູງແລະທົນທານ. ໂຄງປະກອບ porous ຂອງ tac porous ຖືກສ້າງຂື້ນໃນຂະບວນການຜະລິດຂອງວັດສະດຸ, ແລະ porosity ສາມາດຄວບຄຸມໄດ້ຕາມຄວາມຕ້ອງການຂອງຄໍາຮ້ອງສະເພາະ. ຜະລິດຕະພັນນີ້ມັກຈະຜະລິດໂດຍເງິນຝາກ Vapor ທາງເຄມີ (CVD)ວິທີການ, ຮັບປະກັນການຄວບຄຸມທີ່ຊັດເຈນຂອງຂະຫນາດແລະການແຈກຢາຍຂອງ Pore ຂອງມັນ.

ໂຄງສ້າງໂມເລກຸນຂອງ tantalum carbide

Corbide vetek semiconductor porolor carbide (TAC) ມີຄຸນສົມບັດຜະລິດຕະພັນຕໍ່ໄປນີ້

● porosity: ໂຄງສ້າງທີ່ເຈາະໃຫ້ມັນເຮັດໃຫ້ມີຫນ້າທີ່ແຕກຕ່າງກັນໃນສະຖານະການສະເພາະໃດຫນຶ່ງ, ລວມທັງການແຜ່ກະຈາຍອາຍແກັສ, ການກັ່ນຕອງຫຼືການລະລາຍຄວາມຮ້ອນທີ່ຄວບຄຸມ.

●ຈຸດລະລາຍສູງ: tantalum carbide ມີຈຸດທີ່ລະລາຍສູງທີ່ສຸດປະມານ 3,880 ° C, ເຊິ່ງເຫມາະກັບສະພາບແວດລ້ອມທີ່ມີອຸນຫະພູມສູງທີ່ສຸດ.

●ຄວາມແຂງກະດ້າງດີເລີດ: TAC porous ມີຄວາມແຂງແຮງສູງປະມານ 9-10 ໃນລະດັບຄວາມແຂງຂອງ Mohs, ຄ້າຍຄືກັບເພັດ. , ແລະສາມາດຕ້ານທານກັບກົນຈັກທີ່ໃສ່ພາຍໃຕ້ສະພາບການທີ່ສຸດ.

●ຄວາມຫມັ້ນຄົງຄວາມຮ້ອນອຸປະກອນການປະຕິບັດຄວາມຫມັ້ນຄົງໃນສະພາບແວດລ້ອມທີ່ມີອຸນຫະພູມສູງແລະມີສະຖຽນລະພາບຄວາມຮ້ອນທີ່ແຂງແຮງ, ໃຫ້ຮັບປະກັນຄວາມຫມັ້ນຄົງໃນສະພາບແວດລ້ອມທີ່ມີອຸນຫະພູມສູງ.

●ຄວາມຮ້ອນຄວາມຮ້ອນສູງ: ເຖິງວ່າຈະມີຄວາມກະຕືລືລົ້ນ, tantalum carbide porous ຍັງຮັກສາການປະຕິບັດຄວາມຮ້ອນທີ່ດີ, ການສົ່ງເສີມຄວາມຮ້ອນທີ່ມີປະສິດຕິພາບ.

●ຂະຫຍາຍຄວາມຮ້ອນຕ່ໍາ: ຕົວຄູນຂະຫຍາຍຄວາມຮ້ອນຕ່ໍາຂອງ tantalum corbide (TAC) ຊ່ວຍໃຫ້ວັດສະດຸຍັງຄົງຫມັ້ນຄົງດ້ານວິຊາການສູງອາກາດແລະຫຼຸດຜ່ອນຜົນກະທົບຂອງຄວາມກົດດັນຄວາມຮ້ອນ.

ຄຸນສົມບັດທາງກາຍະພາບຂອງການເຄືອບ TAC

ໃນການຜະລິດ semiconductor, tantalum tantalum carbide (TAC) ຫຼີ້ນບົດບາດສໍາຄັນດັ່ງຕໍ່ໄປນີ້s

ໃນຂະບວນການທີ່ມີອຸນຫະພູມສູງເຊັ່ນ:plasma etchingແລະ CVD, vetek semicondortortor carbide porous porous ມັກຈະຖືກນໍາໃຊ້ເປັນການເຄືອບປ້ອງກັນສໍາລັບການປຸງແຕ່ງອຸປະກອນ. ນີ້ແມ່ນເນື່ອງມາຈາກການຕໍ່ຕ້ານການຕໍ່ຕ້ານທີ່ເຂັ້ມແຂງຂອງເຄືອບ TACແລະຄວາມຫມັ້ນຄົງຂອງອຸນຫະພູມສູງຂອງມັນ. ຄຸນສົມບັດເຫຼົ່ານີ້ຮັບປະກັນວ່າມັນຈະປົກປ້ອງພື້ນຜິວທີ່ປະເຊີນຫນ້າກັບທາດອາຍຜິດຫຼືອຸນຫະພູມທີ່ສຸດ, ເຮັດໃຫ້ເກີດປະຕິກິລິຍາປົກກະຕິຂອງຂະບວນການທີ່ມີອຸນຫະພູມສູງ.

ໃນຂະບວນການ Diffuse, Carbide Porous ສາມາດຮັບໃຊ້ເປັນອຸປະສັກທີ່ແຜ່ຫຼາຍເພື່ອປ້ອງກັນການປະສົມວັດຖຸໃນຂະບວນການທີ່ມີອຸນຫະພູມສູງ. ຄຸນນະສົມບັດນີ້ມັກຈະຖືກນໍາໃຊ້ເພື່ອຄວບຄຸມການແຜ່ກະຈາຍຂອງ dopants ໃນຂະບວນການເຊັ່ນ: ການຝັງເຂັມແລະການຄວບຄຸມຄວາມບໍລິສຸດຂອງເຄື່ອງ wafers semiconduor.

ໂຄງປະກອບ porous ຂອງ vetek semiconductor carbide porous porous porous porolor porous porolor carbide ແມ່ນເຫມາະສົມຫຼາຍສໍາລັບການຄວບຄຸມການປຸງແຕ່ງ semiconductor ທີ່ຕ້ອງການການຄວບຄຸມກະແສນໍ້າມັນຫຼືການກັ່ນຕອງທີ່ຊັດເຈນ. ໃນຂະບວນການນີ້, tac porous ສ່ວນໃຫຍ່ແມ່ນມີບົດບາດຂອງການກັ່ນຕອງແລະການແຈກຢາຍກ gas າຊ. ຄວາມບໍ່ມີປະໂຫຍດທາງເຄມີຂອງມັນຮັບປະກັນວ່າບໍ່ມີສິ່ງປົນເປື້ອນໃດໆທີ່ຖືກນໍາສະເຫນີໃນລະຫວ່າງຂັ້ນຕອນການຕອງ. ສິ່ງນີ້ຮັບປະກັນຄວາມບໍລິສຸດຂອງຜະລິດຕະພັນທີ່ປຸງແຕ່ງ.

tantalum carbide (TAC) ການເຄືອບໃນສ່ວນກາເຟທີ່ມີກ້ອງຈຸລະທັດ