ຂ່າວ

ການເລືອກ Semiconductor Quartz Crucible ທີ່ຖືກຕ້ອງບໍ່ແມ່ນລາຍລະອຽດການຊື້ເລັກນ້ອຍ. ມັນມີຜົນກະທົບໂດຍກົງຕໍ່ຄວາມສະອາດລະລາຍ, ຄວາມຫມັ້ນຄົງຂອງຄວາມຮ້ອນ, ຄວາມສອດຄ່ອງຂອງການດຶງໄປເຊຍກັນ, ການຄວບຄຸມຜົນຜະລິດ, ແລະຈັງຫວະການບໍລິການຂອງເສັ້ນການຂະຫຍາຍຕົວທັງຫມົດ.

ຝຸ່ນ graphite ຄວາມບໍລິສຸດສູງໄດ້ກາຍເປັນວັດສະດຸທີ່ສໍາຄັນໃນທົ່ວການຜະລິດ semiconductor, ການຜະລິດ photovoltaic, ceramics ກ້າວຫນ້າ, ແລະຂະບວນການອຸດສາຫະກໍາອຸນຫະພູມສູງ. ແຕ່ສິ່ງທີ່ກໍານົດວ່າຝຸ່ນ graphite ຄວາມບໍລິສຸດສູງແມ່ນຫຍັງ, ແລະເປັນຫຍັງມັນຈຶ່ງດີກວ່າວັດສະດຸ graphite ມາດຕະຖານໃນສະພາບແວດລ້ອມທີ່ຕ້ອງການ?

ເນື່ອງຈາກການຜະລິດ semiconductor ກ້າວໄປສູ່ຄວາມແມ່ນຍໍາທີ່ສູງຂຶ້ນ, ອຸນຫະພູມທີ່ສູງຂຶ້ນ, ແລະສະພາບແວດລ້ອມ plasma ທີ່ຮຸກຮານຫຼາຍ, ການຄັດເລືອກວັດສະດຸສໍາລັບອົງປະກອບທີ່ສໍາຄັນໄດ້ກາຍເປັນຄວາມສໍາຄັນເພີ່ມຂຶ້ນ. ວົງການເຄືອບ Tantalum Carbide ໄດ້ອອກມາເປັນການແກ້ໄຂທີ່ສໍາຄັນສໍາລັບການປະເຊີນຫນ້າກັບ plasma ແລະການນໍາໃຊ້ອຸນຫະພູມສູງເນື່ອງຈາກຄວາມແຂງພິເສດ, ຄວາມຫມັ້ນຄົງຂອງຄວາມຮ້ອນ, ແລະການຕໍ່ຕ້ານສານເຄມີ. ບົດຄວາມນີ້ສະຫນອງການຂຸດຄົ້ນທີ່ສົມບູນແບບ, ໃນຄວາມເລິກຂອງວົງການເຄືອບ tantalum carbide ແມ່ນຫຍັງ, ມັນເຮັດວຽກແນວໃດ, ເປັນຫຍັງມັນດີກວ່າວັດສະດຸພື້ນເມືອງ, ແລະເປັນຫຍັງຜູ້ຜະລິດຊັ້ນນໍາໄວ້ວາງໃຈວິທີແກ້ໄຂຈາກ VeTek semiconductor.

ເຮືອ wafer ceramics Silicon carbide (SiC) ໄດ້ກາຍເປັນເຄື່ອງມືທີ່ຂາດບໍ່ໄດ້ໃນສະພາບແວດລ້ອມການຜະລິດ semiconductor ແລະ photovoltaic ທີ່ທັນສະໄຫມ. ອົງປະກອບຂັ້ນສູງເຫຼົ່ານີ້ມີບົດບາດສໍາຄັນໃນຂັ້ນຕອນການປຸງແຕ່ງ wafer ເຊັ່ນການຜຸພັງ, ການແຜ່ກະຈາຍ, ການຂະຫຍາຍຕົວຂອງ epitaxial, ແລະການລະລາຍຂອງ vapor ສານເຄມີ.

ແຫວນເຄືອບ TaC (Tantalum Carbide) ແມ່ນສ່ວນປະກອບສໍາຄັນໃນການຜະລິດ semiconductor, ໂດຍສະເພາະແມ່ນອຸປະກອນທີ່ປະເຊີນກັບສະພາບແວດລ້ອມທີ່ຮຸນແຮງ. blog ນີ້ຂຸດຄົ້ນຜົນປະໂຫຍດຂອງການນໍາໃຊ້ແຫວນເຄືອບ TaC, ຄໍາຮ້ອງສະຫມັກຂອງພວກເຂົາໃນຂະບວນການ semiconductor, ແລະເປັນຫຍັງວິທີແກ້ໄຂການເຄືອບ TaC ຂອງ VeTek ເປັນທາງເລືອກທີ່ດີທີ່ສຸດສໍາລັບຜູ້ຊ່ຽວຊານດ້ານອຸດສາຫະກໍາ. ໂດຍການເຂົ້າໄປໃນການປະຕິບັດ, ປະສິດທິພາບຄ່າໃຊ້ຈ່າຍ, ແລະຄວາມທົນທານ, ບົດຄວາມນີ້ຊີ້ໃຫ້ເຫັນເຖິງບົດບາດຂອງສານເຄືອບຊັ້ນສູງເຫຼົ່ານີ້ໃນການເພີ່ມປະສິດທິພາບອຸປະກອນ semiconductor.

ໃນ semiconductor, solar cell, ແລະ microelectronics ການຜະລິດ, ການປຸງແຕ່ງປຽກທີ່ມີຄວາມແມ່ນຍໍາເຊັ່ນ: ການທໍາຄວາມສະອາດ wafer, etching, ແລະຄວາມຕ້ອງການການກະກຽມດ້ານອຸປະກອນແລະອຸປະກອນທີ່ຮັບປະກັນຄວາມບໍລິສຸດສູງ, ຄວາມຫມັ້ນຄົງຄວາມຮ້ອນແລະການຕໍ່ຕ້ານ corrosion. ອາບນ້ໍາ Quartz ທີ່ມີຄວາມບໍລິສຸດສູງສະຫນອງຄຸນລັກສະນະເຫຼົ່ານີ້ດ້ວຍການກໍ່ສ້າງ quartz ສັງເຄາະ, ເຮັດໃຫ້ມັນເປັນພື້ນຖານຂອງສະພາບແວດລ້ອມການຜະລິດທີ່ທັນສະໄຫມ.

ເປັນເວລາສອງທົດສະວັດທີ່ຢູ່ໃນອັນດັບຕົ້ນໆຂອງນະວັດຕະກໍາເຕັກໂນໂລຢີ, ຂ້ອຍໄດ້ເຫັນສ່ວນປະກອບມາແລະໄປ. ແຕ່ມີຫນ້ອຍຄົນທີ່ໄດ້ສ້າງຂຶ້ນໃນຂະນະທີ່ສະຫນັບສະຫນູນເປັນສິ່ງທີ່ມີຄວາມບໍລິສຸດສູງ. ມັນບໍ່ແມ່ນພຽງແຕ່ວັດສະດຸອື່ນເທົ່ານັ້ນ; ມັນແມ່ນອົງປະກອບພື້ນຖານທີ່ຊຸກຍູ້ເຂດແດນທີ່ເປັນໄປໄດ້ໃນສິ່ງທີ່ເປັນໄປໄດ້ໃນພາຫະນະໄຟຟ້າ.

ງານວາງສະແດງ semicon Euicon Europa ໃນ Munich, ເຢຍລະມັນ, ຈະຈັດຂື້ນໃນເດືອນພະຈິກໃນເອີຣົບ. ເປັນເຈົ້າພາບໂດຍ SEMI (SEMICONDUTOR SUNMANDUTOR ແລະ ERIND EANTER)

ທີ່ vetek semiconductor, ພວກເຮົາມີຄວາມຊ່ຽວຊານໃນການຊຸກຍູ້ເຂດແດນທີ່ເປັນໄປໄດ້ດ້ວຍນ້ໍາຊິລິໂຄນ carbide ທີ່ກ້າວຫນ້າ, ການພັດທະນາຂອງຊັ້ນຮຽນທີ່ໄດ້ຮັບການອອກແບບໂດຍສະເພາະບ່ອນທີ່ວັດສະດຸອື່ນໆ.

ພວກເຮົາທຸກຄົນຮູ້ສຶກວ່າເວລາທີ່ຫນ້າຕົກໃຈ. ແບັດເຕີຣີໂທລະສັບຂອງທ່ານຢູ່ທີ່ 5%, ທ່ານມີນາທີທີ່ຈະໃຊ້ເວລາຫວ່າງ, ແລະທຸກໆການສຽບໃນຄວາມຮູ້ສຶກຄືກັບນິລັນດອນ. ຈະເປັນແນວໃດຖ້າຄວາມລັບທີ່ຈະສິ້ນສຸດຄວາມກັງວົນນີ້ທີ່ບໍ່ໄດ້ຢູ່ໃນເຄມີໃຫມ່ຫມົດ, ແຕ່ໃນການຄິດເຖິງເອກະສານພື້ນຖານພາຍໃນແບັດເຕີຣີເອງ? ສໍາລັບສອງທົດສະວັດທີ່ຢູ່ໃນອັນດັບທໍາອິດຂອງເຕັກໂນໂລຢີ, ຂ້ອຍໄດ້ເຫັນທ່າອ່ຽງມາແລະໄປ. ແຕ່ວ່າ buzz ປະມານ porous graphite ຮູ້ສຶກແຕກຕ່າງກັນ. ມັນບໍ່ແມ່ນພຽງແຕ່ບາດກ້າວທີ່ເພີ່ມຂື້ນເທົ່ານັ້ນ; ມັນສະແດງເຖິງການປ່ຽນແປງພື້ນຖານໃນວິທີທີ່ພວກເຮົາເຂົ້າຫາການອອກແບບການເກັບຮັກສາພະລັງງານ.

ທີ່ Vetek, ພວກເຮົາໄດ້ໃຊ້ເວລາຫຼາຍທົດສະວັດປັບປຸງແກ້ໄຂວິທີແກ້ໄຂຮູບພາບ isotropic ຂອງພວກເຮົາສໍາລັບອຸດສາຫະກໍາທີ່ຕ້ອງການຄວາມຫນ້າເຊື່ອຖືໃນອຸນຫະພູມທີ່ມີຄວາມຕ້ອງການ. ໃຫ້ເຮົາເຂົ້າໄປໃນເຫດຜົນທີ່ອຸປະກອນການນີ້ແມ່ນທາງເລືອກອັນດັບຫນຶ່ງ - ແລະຜະລິດຕະພັນຂອງພວກເຮົາແມ່ນດີກວ່າການແຂ່ງຂັນ.

ໄດ້ເຮັດວຽກຢູ່ໃນອຸດສາຫະກໍາ semiconductor ເປັນເວລາຫນຶ່ງທົດສະວັດ, ຂ້າພະເຈົ້າເຂົ້າໃຈດ້ວຍຕົນເອງວ່າການຄັດເລືອກວັດສະດຸທີ່ທ້າທາຍສາມາດຢູ່ໃນອຸນຫະພູມສູງ, ມີຄວາມສູງ. ມັນບໍ່ແມ່ນຈົນກ່ວາຂ້າພະເຈົ້າໄດ້ພົບກັບ block sic ຂອງ vetek ທີ່ຂ້າພະເຈົ້າສຸດທ້າຍໄດ້ພົບເຫັນວິທີແກ້ໄຂທີ່ຫນ້າເຊື່ອຖືໄດ້.

Veteksemicon ສ່ອງແສງຢູ່ທີ່ງານວາງສະແດງສາກົນ Shanghai SEMICON 2025, ນໍາພາອະນາຄົດຂອງອຸດສາຫະກໍາ semiconductor ດ້ວຍເຕັກໂນໂລຢີໃຫມ່ໆ.

ໃນອຸດສະຫະກໍາການຜະລິດ semiconductor, ໃນຂະນະທີ່ຂະຫນາດຂອງອຸປະກອນຍັງຄົງຫົດຕົວ, ເຕັກໂນໂລຢີເງິນຝາກຂອງວັດສະດຸຮູບເງົາບາງໆໄດ້ເຮັດໃຫ້ເກີດບັນຫາທີ່ບໍ່ເຄີຍມີມາກ່ອນ. ການຝາກເງິນແບບປະລໍາມະນູ (ALD), ໃນຖານະເປັນເຕັກໂນໂລຢີການຝາກທີ່ຊັດເຈນບາງໆທີ່ສາມາດບັນລຸໄດ້ໃນລະດັບປະລໍາມະນູ, ໄດ້ກາຍເປັນສ່ວນທີ່ຂາດບໍ່ໄດ້ຂອງການຜະລິດ semiconduor. ບົດຂຽນນີ້ມີຈຸດປະສົງເພື່ອແນະນໍາການໄຫລຂອງຂະບວນການແລະຫຼັກການຂອງ SRD ເພື່ອຊ່ວຍໃຫ້ເຂົ້າໃຈບົດບາດສໍາຄັນຂອງມັນໃນການຜະລິດຊິບທີ່ກ້າວຫນ້າ.

ມັນເຫມາະສົມທີ່ຈະສ້າງວົງຈອນປະສົມປະສານຫຼືອຸປະກອນ semiconductor ໃນຊັ້ນພື້ນຖານ crystalline ທີ່ສົມບູນແບບ. ຂະບວນການ epitaxy (epi) ໃນການຜະລິດ semiconductor ມີຈຸດມຸ່ງຫມາຍທີ່ຈະຝາກຊັ້ນ crystalline ດຽວອັນດີ, ປົກກະຕິແລ້ວປະມານ 0.5 ຫາ 20 microns, ເທິງ substrate ກ້ອນດຽວ. ຂະບວນການ epitaxy ເປັນຂັ້ນຕອນທີ່ສໍາຄັນໃນການຜະລິດອຸປະກອນ semiconductor, ໂດຍສະເພາະໃນການຜະລິດ silicon wafer.

ຄວາມແຕກຕ່າງຕົ້ນຕໍລະຫວ່າງການຝາກເງິນຊັ້ນຂອງ Epitaxy ແລະປະລໍາມະນູ (Ald) ແມ່ນຢູ່ໃນກົນໄກການຈະເລີນເຕີບໂຕຂອງຮູບເງົາຂອງພວກເຂົາແລະສະພາບການເຮັດວຽກ. Epitaxy ຫມາຍເຖິງຂັ້ນຕອນການຂະຫຍາຍຮູບເງົາບາງໆຂອງຜລຶກໃນຊັ້ນໃຕ້ດິນທີ່ມີຄວາມສໍາພັນດ້ານການຮັກສາສະເພາະ, ຮັກສາໂຄງສ້າງຂອງຜລຶກດຽວກັນຫຼືຄ້າຍຄືກັນ. ໃນທາງກົງກັນຂ້າມ, ALD ແມ່ນເຕັກນິກການຝາກເງິນທີ່ກ່ຽວຂ້ອງກັບການເປີດເຜີຍບັນດາຊັ້ນໃຕ້ຂອງສານເຄມີທີ່ແຕກຕ່າງກັນເພື່ອປະກອບເປັນຮູບເງົາບາງໆໃນຊ່ວງເວລານັ້ນ.