ບ້ານ
ກ່ຽວກັບພວກເຮົາ
ກ່ຽວກັບບໍລິສັດ
FAQ
ຜູ້ຊ່ຽວຊານດ້ານວິຊາການ
ອຸປະກອນການຜະລິດ
ໃບຢັ້ງຢືນຂອງພວກເຮົາ
ບໍລິການຂອງພວກເຮົາ
ຜະລິດຕະພັນ
ການເຄືອບ Tantalum Carbide
ຂະບວນການເຕີບໂຕຂອງ SIC SYLY
ຂະບວນການ SiC Epitaxy
ເຄື່ອງຮັບແສງ UV LED
ການເຄືອບ Silicon Carbide
ຊິລິໂຄນ Silicon ແຂງ
ອະພິພາດ Epicon
Silicon Carbide Epitaxy
ເຕັກໂນໂລຊີ MOCVD
ຂະບວນການ RTA/RTP
ICP/PSS ຂະບວນການ Etching
ຂະບວນການອື່ນໆ
ALD
Graphite ພິເສດ
ການເຄືອບກາກບອນ Pyrolytic
ການເຄືອບກາກບອນທີ່ມີກາກບອນທີ່ມີກາກບອນ
graphite porous
isotropic graphite
ເສີກ
ເອກະສານຄວາມບໍລິສຸດສູງ
ເສັ້ນໄຍກາກບອນ
C / C Composite
rigid ຮູ້ສຶກ
ອ່ອນຮູ້ສຶກ
ເຊລາມິກ Silicon Carbide
ຄວາມບໍລິສຸດສູງ SIC
ການຜຸພັງແລະຄວາມກະຕືລືລົ້ນ
Semiconductor Ceramics ອື່ນໆ
semiconductor Quartz
ອາລູມິນຽມຜຸພັງ coramics
Silicon Nitride
pic sic porous
Wafer
ເຕັກໂນໂລຢີການຮັກສາພື້ນຜິວ
ການບໍລິການດ້ານວິຊາການ
ຂ່າວ
ຂ່າວບໍລິສັດ
ຂ່າວອຸດສາຫະກໍາ
ດາວໂຫຼດ
ດາວໂຫຼດ
ສົ່ງສອບຖາມ
ຕິດຕໍ່ພວກເຮົາ
English
Español
Português
русский
Français
日本語
Deutsch
tiếng Việt
Italiano
Nederlands
ภาษาไทย
Polski
한국어
Svenska
magyar
Malay
বাংলা ভাষার
Dansk
Suomi
हिन्दी
Pilipino
Türkçe
Gaeilge
العربية
Indonesia
Norsk
تمل
český
ελληνικά
український
Javanese
فارسی
தமிழ்
తెలుగు
नेपाली
Burmese
български
ລາວ
Latine
Қазақша
Euskal
Azərbaycan
Slovenský jazyk
Македонски
Lietuvos
Eesti Keel
Română
Slovenski
मराठी
Srpski језик
ເມນູເວັບ
ບ້ານ
ກ່ຽວກັບພວກເຮົາ
ກ່ຽວກັບບໍລິສັດ
FAQ
ຜູ້ຊ່ຽວຊານດ້ານວິຊາການ
ອຸປະກອນການຜະລິດ
ໃບຢັ້ງຢືນຂອງພວກເຮົາ
ບໍລິການຂອງພວກເຮົາ
ຜະລິດຕະພັນ
ການເຄືອບ Tantalum Carbide
ຂະບວນການເຕີບໂຕຂອງ SIC SYLY
ຂະບວນການ SiC Epitaxy
ເຄື່ອງຮັບແສງ UV LED
ການເຄືອບ Silicon Carbide
ຊິລິໂຄນ Silicon ແຂງ
ອະພິພາດ Epicon
Silicon Carbide Epitaxy
ເຕັກໂນໂລຊີ MOCVD
ຂະບວນການ RTA/RTP
ICP/PSS ຂະບວນການ Etching
ຂະບວນການອື່ນໆ
ALD
Graphite ພິເສດ
ການເຄືອບກາກບອນ Pyrolytic
ການເຄືອບກາກບອນທີ່ມີກາກບອນທີ່ມີກາກບອນ
graphite porous
isotropic graphite
ເສີກ
ເອກະສານຄວາມບໍລິສຸດສູງ
ເສັ້ນໄຍກາກບອນ
C / C Composite
rigid ຮູ້ສຶກ
ອ່ອນຮູ້ສຶກ
ເຊລາມິກ Silicon Carbide
ຄວາມບໍລິສຸດສູງ SIC
ການຜຸພັງແລະຄວາມກະຕືລືລົ້ນ
Semiconductor Ceramics ອື່ນໆ
semiconductor Quartz
ອາລູມິນຽມຜຸພັງ coramics
Silicon Nitride
pic sic porous
Wafer
ເຕັກໂນໂລຢີການຮັກສາພື້ນຜິວ
ການບໍລິການດ້ານວິຊາການ
ຂ່າວ
ຂ່າວບໍລິສັດ
ຂ່າວອຸດສາຫະກໍາ
ດາວໂຫຼດ
ດາວໂຫຼດ
ສົ່ງສອບຖາມ
ຕິດຕໍ່ພວກເຮົາ
ຄົ້ນຫາຜະລິດຕະພັນ
ພາສາ
English
Español
Português
русский
Français
日本語
Deutsch
tiếng Việt
Italiano
Nederlands
ภาษาไทย
Polski
한국어
Svenska
magyar
Malay
বাংলা ভাষার
Dansk
Suomi
हिन्दी
Pilipino
Türkçe
Gaeilge
العربية
Indonesia
Norsk
تمل
český
ελληνικά
український
Javanese
فارسی
தமிழ்
తెలుగు
नेपाली
Burmese
български
ລາວ
Latine
Қазақша
Euskal
Azərbaycan
Slovenský jazyk
Македонски
Lietuvos
Eesti Keel
Română
Slovenski
मराठी
Srpski језик
ອອກຈາກເມນູ
ບ້ານ
ຂ່າວ
ຂ່າວອຸດສາຫະກໍາ
ຂ່າວອຸດສາຫະກໍາ
ຂ່າວບໍລິສັດ
ຂ່າວອຸດສາຫະກໍາ
21
2026-07
Crucible Graphite Coated Carbon Glassy ປັບປຸງການປຸງແຕ່ງວັດສະດຸ Semiconductor ທີ່ມີອຸນຫະພູມສູງໄດ້ແນວໃດ
A Glassy Carbon Coated Graphite Crucible ແມ່ນອົງປະກອບການປຸງແຕ່ງຄວາມຮ້ອນແບບພິເສດທີ່ອອກແບບມາສໍາລັບຄໍາຮ້ອງສະຫມັກທີ່ຕ້ອງການເຊັ່ນ: ການຜະລິດ semiconductor, ການເຕີບໃຫຍ່ຂອງໄປເຊຍກັນ, ການປິ່ນປົວຄວາມຮ້ອນສູນຍາກາດ, ແລະການຄົ້ນຄວ້າວັດສະດຸທີ່ມີອຸນຫະພູມສູງ. ບົດຄວາມນີ້ອະທິບາຍໂຄງສ້າງຂອງຕົນ, ຂໍ້ດີ, ການນໍາໃຊ້, ແລະການພິຈາລະນາການຄັດເລືອກ. VeTek Semiconductor ສະຫນອງການແກ້ໄຂ crucible ປະສິດທິພາບສູງທີ່ປະສົມປະສານເຕັກໂນໂລຊີການເຄືອບກາກບອນແກ້ວກັບການຜະລິດ graphite ຄວາມແມ່ນຍໍາເພື່ອຕອບສະຫນອງຄວາມຕ້ອງການທີ່ເຄັ່ງຄັດຂອງອຸດສາຫະກໍາທີ່ທັນສະໄຫມ.
08
2026-07
ເປັນຫຍັງ Hyperpure Graphite Rigid ຮູ້ສຶກວ່າມີຄວາມຈໍາເປັນສໍາລັບການຜະລິດ Semiconductor ທີ່ມີອຸນຫະພູມສູງ
ໃນຂະນະທີ່ການຜະລິດ semiconductor ກ້າວໄປສູ່ຂັ້ນຕອນທີ່ກ້າວຫນ້າທາງດ້ານຂະບວນການ, ຄວາມບໍລິສຸດຂອງວັດສະດຸແລະຄວາມຫມັ້ນຄົງຂອງຄວາມຮ້ອນໄດ້ກາຍເປັນຄວາມສໍາຄັນຫຼາຍກວ່າເກົ່າ. Hyperpure graphite rigid ມີຄວາມຮູ້ສຶກໄດ້ກາຍເປັນຫນຶ່ງໃນອຸປະກອນ insulation ທີ່ເຊື່ອຖືໄດ້ຫຼາຍທີ່ສຸດສໍາລັບ furnaces ການຂະຫຍາຍຕົວໄປເຊຍກັນ, reactors epitaxial, ລະບົບການຜະລິດຊິລິໂຄນ carbide, ແລະຄໍາຮ້ອງສະຫມັກອື່ນໆທີ່ມີອຸນຫະພູມສູງ.
02
2026-07
SiC Diffusion Furnace Tube ແມ່ນການແກ້ໄຂສຸດທ້າຍສໍາລັບການປຸງແຕ່ງເຊມິຄອນດັກເຕີທີ່ມີອຸນຫະພູມສູງ.
ທໍ່ SiC Diffusion Furnace ໄດ້ກາຍເປັນອົງປະກອບທີ່ສໍາຄັນໃນການຜະລິດ semiconductor ທີ່ທັນສະໄຫມເນື່ອງຈາກຄວາມຫມັ້ນຄົງຂອງຄວາມຮ້ອນພິເສດ, ການຕໍ່ຕ້ານສານເຄມີ, ແລະຊີວິດການບໍລິການຍາວ. ບົດຄວາມນີ້ສໍາຫຼວດວິທີການ VeTek ສະຫນອງການແກ້ໄຂ SiC ຂັ້ນສູງທີ່ເພີ່ມປະສິດທິພາບການແຜ່ກະຈາຍ furnace, ປັບປຸງຄຸນນະພາບຂອງ wafer, ແລະຫຼຸດຜ່ອນຄ່າໃຊ້ຈ່າຍໃນການຜະລິດໂດຍລວມ. ທ່ານຈະໄດ້ຮຽນຮູ້ໂຄງສ້າງ, ຂໍ້ໄດ້ປຽບ, ຄໍາຮ້ອງສະຫມັກ, ສະເພາະດ້ານວິຊາການ, ແລະເປັນຫຍັງມັນຈຶ່ງປ່ຽນແທນທໍ່ quartz ແລະ alumina ແບບດັ້ງເດີມ.
«
1
...
36
37
38
39
40
...
51
»
WhatsApp
Tina
E-mail
Andy
VeTek
X
ພວກເຮົາໃຊ້ cookies ເພື່ອສະເຫນີໃຫ້ທ່ານມີປະສົບການການຊອກຫາທີ່ດີກວ່າ, ວິເຄາະການເຂົ້າຊົມເວັບໄຊທ໌ແລະປັບແຕ່ງເນື້ອຫາ. ໂດຍການນໍາໃຊ້ເວັບໄຊທ໌ນີ້, ທ່ານຕົກລົງເຫັນດີກັບການນໍາໃຊ້ cookies ຂອງພວກເຮົາ.
ນະໂຍບາຍຄວາມເປັນສ່ວນຕົວ
ປະຕິເສດ
ຍອມຮັບ